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J-GLOBAL ID：200903063087117119

近視野光発生素子の製造方法

Inventor： 笠間 宣行 ,  大海 学 ,  光岡 靖幸 ,  前田 英孝 ,  加藤 健二 ,  新輪 隆
Applicant, Patent owner： セイコーインスツルメンツ株式会社
Agent (1)： 林 敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000062407
Publication number (International publication number)：2001255253
Application date： Mar. 07, 2000
Publication date： Sep. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】 近視野光を利用した光メモリ装置や観察装置等において、光利用効率が高く、且つ近視野光発生素子に供給される光束と微小開口との超高精度な位置合わせを容易にする、あるいは位置合わせの必要の無い、低コストで大量生産可能な近視野光発生素子を提供するための製造方法を得ること。【解決手段】 本発明による近視野光発生素子の製造方法は、導光構造作製工程101と、凸形状部を作製しようとする面とは異なる面から凸形状作製光束を照射する凸形状作製光束照射工程102と、凸形状作製工程201と、微小開口作製工程105とから構成されている。

Claim (excerpt)：

凸形状化した光伝搬体からなる凸形状部と、前記凸形状部の頂点に形成した微小開口と、前記微小開口に光を導入あるいは、前記微小開口からの散乱光を受光素子に導く導光構造からなる近視野光発生素子を製造するにあたり、導光構造作製工程と、前記凸形状部を作製しようとする面とは異なる面から凸形状作製光束を照射する凸形状作製光束照射工程と、凸形状作製工程と、微小開口作製工程と、を含むことを特徴とする近視野光発生素子の製造方法。

IPC (6)：

G01N 13/14 ,  G01N 13/10 ,  G02B 21/00 ,  G11B 7/135 ,  G11B 7/22 ,  G12B 21/06

FI (6)：

G01N 13/14 B ,  G01N 13/10 G ,  G02B 21/00 ,  G11B 7/135 A ,  G11B 7/22 ,  G12B 1/00 601 C

F-Term (9)：

2H052AA07 ,  5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119AA38 ,  5D119BA01 ,  5D119CA06 ,  5D119JA34 ,  5D119JA44 ,  5D119NA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 光プローブ素子、光プローブ素子を用いた記録再生装置、および光プローブ素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-121710   Applicant：シャープ株式会社
• 光記録装置及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-031221   Applicant：富士ゼロックス株式会社
• 光検出または照射用プローブとその製造方法、及びこれらのプローブを備えた走査型プローブ顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-173933   Applicant：キヤノン株式会社
• 光検出または照射用の光プローブと該プローブを備えた近視野光学顕微鏡、及該光プローブの製造方法とその製造に用いる基板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-272600   Applicant：キヤノン株式会社
• 光プローブ素子および光プローブ素子を用いた記録再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-266528   Applicant：シャープ株式会社