Pat
J-GLOBAL ID：200903063347963981

粒径分布測定装置および粒径分布測定装置における感度校正方法

Inventor：
伊串 達夫

About 伊串 達夫


Applicant, Patent owner：
株式会社堀場製作所

About 株式会社堀場製作所


Agent (1)： 藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002035288
Publication number (International publication number)：2003232716
Application date： Feb. 13, 2002
Publication date： Aug. 22, 2003
Summary：
【要約】【課題】 短時間で高精度に校正することができる粒径分布測定装置および粒径分布測定装置における感度校正方法を提供する。【解決手段】 測定対象試料Sにレーザ光Lを照射することによって生ずる散乱光Lsを所定の角度毎に検出する複数の検出器5を備え、各検出器5による検出値Dinに基づいて、測定対象試料Sの粒径分布Doutを求める粒径分布測定装置1であって、前記測定対象試料Sを設置する位置に、蛍光物質Scを位置させることが可能な試料セル2と実質的に同一形状のセル2’を有する。
Claim (excerpt)：
測定対象試料に光を照射することによって生ずる回折光および/または散乱光を所定の角度毎に検出する複数の検出器を備え、各検出器による検出値に基づいて、測定対象試料の粒径分布を求める粒径分布測定装置であって、前記測定対象試料を設置する位置に、蛍光物質を位置させることが可能な機構を有することを特徴とする粒径分布測定装置。
IPC (2)：
G01N 15/02 ,  G01N 15/14
FI (3)：
G01N 15/02 A ,  G01N 15/14 D ,  G01N 15/14 P
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • 標識微粒子およびその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-062264   Applicant：三菱化学株式会社
  • 粒度分布測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-363319   Applicant：日機装株式会社
  • レーザ光照射装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-065246   Applicant：日本光電工業株式会社
Show all
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM