プラズマ処理装置及びプラズマ点灯方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西川惠清 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999303115
Publication number (International publication number)：2001126898
Application date： Oct. 25, 1999
Publication date： May. 11, 2001
Summary：

【要約】【課題】プラズマの点灯が確実に行えて始動が良好であり、しかも安価なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】片側が吹き出し口1として開放された反応容器2と一対のプラズマ生成用電極3、4とを具備して構成される。反応容器2にプラズマ生成用ガスを導入すると共にプラズマ生成用電極3、4の間に交流電界を印加することにより、大気圧近傍の圧力下で反応容器2内にプラズマを生成する。反応容器2の吹き出し口1からジェット状のプラズマを吹き出すプラズマ処理装置に関する。パルス電圧を発生させるための高電圧パルス発生装置5と、このパルス電圧を反応容器2に導入されたプラズマ生成用ガスに印加して反応容器2内にプラズマを点灯させるための点灯用電極6とを設ける。

Claim (excerpt)：

片側が吹き出し口として開放された反応容器と一対のプラズマ生成用電極とを具備して構成され、反応容器にプラズマ生成用ガスを導入すると共にプラズマ生成用電極の間に交流電界を印加することにより、大気圧近傍の圧力下で反応容器内にプラズマを生成し、反応容器の吹き出し口からジェット状のプラズマを吹き出すプラズマ処理装置において、パルス電圧を発生させるための高電圧パルス発生装置と、このパルス電圧を反応容器に導入されたプラズマ生成用ガスに印加して反応容器内にプラズマを点灯させるための点灯用電極とを設けて成ることを特徴とするプラズマ処理装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-344735 Applicant：松下電工株式会社
誘導結合プラズマ発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-222999 Applicant：株式会社日立製作所
特開平3-067496

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