マグネトロンスパッタ装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：原謙三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999053194
Publication number (International publication number)：2000248360
Application date： Mar. 01, 1999
Publication date： Sep. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】投入される電力を有効にターゲットのスパッタに費やすことが可能で、且つターゲットの利用効率を高く保ち、基板上に形成される薄膜の厚さ分布を所定の範囲内に収めることが可能なマグネトロンスパッタ装置を提供する。【解決手段】複数の閉じたレーストラック状高密度プラズマを矩形状のターゲット4の表面に生成する磁場発生機構7を、上記ターゲット4の長辺あるいは短辺の何れかに平行に往復移動させる駆動装置8を備える。上記駆動装置8は、ターゲット4の表面に生成された各レーストラック状高密度プラズマの間隔以下の大きさの振幅で上記磁場発生機構7を等速で往復移動させる。

Claim (excerpt)：

真空室内で薄膜が形成される矩形状の基板に対向配置され、該基板の有効成膜面積よりも大きい矩形状のターゲットと、上記ターゲットに対してマグネトロン放電を行なうことにより、該ターゲットの表面に、複数の閉じたレーストラック状高密度プラズマを生成するプラズマ生成手段と、上記プラズマ生成手段を、上記ターゲットに対して、該ターゲットの長辺あるいは短辺の何れかに平行に往復移動させる駆動手段とを備え、上記プラズマ生成手段は、上記ターゲットの表面に、該プラズマ生成手段の移動方向に沿って、それぞれのレーストラック状高密度プラズマの長軸方向直線領域での間隔と、隣り合うレーストラック状高密度プラズマの長軸方向直線領域での間隔とが略等しくなるようにレーストラック状高密度プラズマを生成し、上記駆動手段は、生成された各レーストラック状高密度プラズマの間隔以下の大きさの振幅で上記プラズマ生成手段を等速で往復移動させることを特徴とするマグネトロンスパッタ装置。

F-Term (2)：

4K029DC42 , 4K029DC46

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

スパッタ装置のマグネトロンカソード電極
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-303116 Applicant：アネルバ株式会社
コーティング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-102510 Applicant：ライボルトアクチエンゲゼルシヤフト
スパッタリング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-079378 Applicant：アネルバ株式会社

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