パターン露光方法及びその装置並びに電子装置の製造方法及び電子装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：作田康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001338868
Publication number (International publication number)：2003142379
Application date： Nov. 05, 2001
Publication date： May. 16, 2003
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】多品種少量のデバイスを露光する際、その都度高価なマスクやレチクルが不可欠であった。またこれらマスクから作られる製品デバイスには固有な番号や製造来歴情報を付けて、製造時、或いは市場に出た後の管理をする事が殆ど不可能であった。【解決手段】2次元光変調器の情報を露光基板に投影露光するに際して、2次元光変調器と基板を走査し、走査に伴い動く投影像のパターンが走査に伴い動く被露光基板の上で相対的に静止しているようにする。更に露光照明光が2次元光変調器上を走査することにより、露光基板の走査方向全域に渡り露光基板をほぼ一定速度で走査露光する。これにより、従来の固定パターンからなるマスクやレチクルを用いずに被露光基板全域を露光する。またこのような2次元光変調器を用いた露光により製作されたデバイスの個々の製品に固有の情報である番号、コード及び製作条件を個々のデバイスに記録する。

Claim (excerpt)：

光変調状態を制御可能な2次元光変調器を用いて2次元光情報パターンを被露光基板に投影して該被露光基板を露光するパターン露光方法であって、前記被露光基板に投影する2次元光情報パターンと前記被露光基板とを相対的に移動させながら前記被露光基板上の第1の領域を露光し、次に前記被露光基板上の第1の領域に隣接する第2の領域に前記被露光基板に投影する2次元光情報パターンと前記被露光基板とを相対的に移動させながら前記被露光基板上の第2の領域を露光することを特徴とするパターン露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G02F 1/13 505 , G03F 7/22

FI (5)：

G02F 1/13 505 , G03F 7/22 H , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 518 , H01L 21/30 529

F-Term (13)：

2H088EA22 , 2H088EA44 , 2H088HA20 , 2H088HA21 , 2H088HA25 , 2H088HA28 , 2H088MA20 , 5F046AA16 , 5F046AA28 , 5F046BA05 , 5F046CB01 , 5F046CC15 , 5F046DD03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

リソグラフィ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-314739 Applicant：株式会社日立製作所
照明装置、走査型露光装置及びそれらを用いたデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-188930 Applicant：キヤノン株式会社
露光装置及びデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-024937 Applicant：キヤノン株式会社

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