光学デバイス・光学デバイス製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：樺山亨 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994041303
Publication number (International publication number)：1995248403
Application date： Mar. 11, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：

【要約】【目的】エッチングを利用して凹面を形成した新規な光学デバイスを実現する。【構成】フォトレジスト20の層を表面に形成されたデバイス材料10の、フォトレジスト20の層に対して露光と現像とを行って、所定の凹面形状201をフォトレジスト20の層に形成し、凹面形状201を出発形状とし、フォトレジスト20の層とデバイス材料10とに対して等方性のエッチングを行い、凹面形状201に応じた凹曲面形状101をデバイス材料10に形成する。

Claim (excerpt)：

フォトレジストの層を表面に形成されたデバイス材料の、上記フォトレジストの層に対して露光と現像とを行って、所定の凹面形状を上記フォトレジストの層に形成し、上記凹面形状を出発形状とし、フォトレジストの層とデバイス材料とに対して等方性のエッチングを行い、上記凹面形状に応じた凹曲面形状を上記デバイス材料に形成することを特徴とする光学デバイス製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平1-219702
特開平3-091960
マイクロレンズ形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-118685 Applicant：松下電器産業株式会社

Show all

Return to Previous Page