顕微鏡

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：杉村興作
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002040101
Publication number (International publication number)：2003241101
Application date： Feb. 18, 2002
Publication date： Aug. 27, 2003
Summary：

【要約】【課題】できるだけ少ない光照射でも、微小領域からの発光を高効率で検出でき、試料を短時間で計測できる顕微鏡を提供する。【解決手段】少なくとも基底状態を含む3つの電子状態を有する分子で染色した試料18に、上記分子を基底状態から第1の励起状態へ遷移させる第1の光λ1と、上記分子を第1の励起状態から、よりエネルギー準位の高い第2の励起状態へ遷移させる第2の光λ2とを、少なくとも一部分重ね合わせるように対物レンズ16およびソリッドイマージョンレンズ17を有する光学系を介して照射して、試料からの発光を検出することにより、できるだけ少ない光照射で、微小領域からの発光を高効率で検出して試料を短時間で計測できる超解像性および検出感度の優れた顕微鏡画像を得る。

Claim (excerpt)：

少なくとも基底状態を含む3つの電子状態を有する分子で染色した試料を観察する顕微鏡であって、上記分子を基底状態から第1の励起状態へ遷移させる第1の光を発生する第1の光源と、上記分子を上記第1の励起状態から、よりエネルギー準位の高い第2の励起状態へ遷移させる第2の光を発生する第2の光源と、上記試料に近接して配置されるソリッドイマージョンレンズを有し、上記第1の光および上記第2の光を、少なくとも一部分重ね合わせて上記試料へ照射する光学系と、上記試料からの発光を検出する検出光学系と、を有することを特徴とする顕微鏡。

IPC (3)：

G02B 21/00 , G01N 21/64 , G02B 21/16

FI (4)：

G02B 21/00 , G01N 21/64 E , G01N 21/64 F , G02B 21/16

F-Term (29)：

2G043AA03 , 2G043BA16 , 2G043DA02 , 2G043EA01 , 2G043EA03 , 2G043FA01 , 2G043FA02 , 2G043FA06 , 2G043GA02 , 2G043GB01 , 2G043GB05 , 2G043HA01 , 2G043HA02 , 2G043HA15 , 2G043JA04 , 2G043KA02 , 2G043KA03 , 2G043KA05 , 2G043KA08 , 2G043KA09 , 2G043LA03 , 2G043MA16 , 2H052AA07 , 2H052AA09 , 2H052AC04 , 2H052AC12 , 2H052AC15 , 2H052AC27 , 2H052AC34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

試料調整法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-118633 Applicant：オリンパス光学工業株式会社, 株式会社日本ローパー, 科学技術振興事業団
固体浸レンズを用いた結像光学系並びにこの結像光学系を用いた光ディスク記録再生装置および顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-292105 Applicant：株式会社ニコン
半導体装置、半導体装置の評価解析方法及び半導体装置の加工装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-116647 Applicant：日本電気株式会社

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