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J-GLOBAL ID:200903067850179177
電解水生成装置及び方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
河野 誠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002168149
Publication number (International publication number):2004008983
Application date: Jun. 10, 2002
Publication date: Jan. 15, 2004
Summary:
【課題】安定した電解水を安価に供給する電解水生成装置及び方法を提供する。【解決手段】電解槽1内に塩水を収容する塩水室2を設け、該塩水室2の両側にイオン透過性の隔膜6,7及び該隔膜6,7近傍に設置された陰電極8又は陽電極9を介して水を収容する陰極室3及び陽極室4を設け、上記各電極8,9に電力を供給する直流電源46を接続して設けた装置の改良に関する。電源46側に供給する電力の電流を略一定に保つ定電流装置47を設け、陰極室3と陽極室4の給水回路に各室への給水量を個別に調節できる流量調節部12,13を設ける。塩水室2の上方には塩水室2内に発生し又は流入したエアのエア抜き44を設けている。塩水を供給する給水路17を介して塩水供給タンク16を設けている。陽極室4で生成された電解水の排出又は取出し回路中に、塩水供給タンク16内に返送された酸性水を排出する排出回路43を接続している。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
電解槽(1)内に塩水その他の電解質を収容する中間室(2)を設け、該中間室(2)の両側に、イオン透過性の隔膜(6),(7)及び該隔膜(6),(7)近傍に設置された陰電極(8)又は陽電極(9)を介して水を収容する陰極室(3)及び陽極室(4)を設け、上記各電極(8),(9)に電力を供給する直流電源(46)を接続して設けた装置において、上記電源(46)側に供給する電力の電流を略一定に保つ定電流装置(47)を設けてなる電解水生成装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (14):
4D061DA03
, 4D061DB07
, 4D061DB08
, 4D061DB09
, 4D061EA02
, 4D061EB02
, 4D061EB04
, 4D061EB13
, 4D061EB16
, 4D061EB39
, 4D061ED12
, 4D061ED13
, 4D061GC02
, 4D061GC12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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電解生成水の製造方法および製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-200890
Applicant:ホシザキ電機株式会社
-
電解水製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-052550
Applicant:ファースト・オーシャン株式会社
-
水処理方法及び水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-125074
Applicant:松下電器産業株式会社
-
電解水生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-095276
Applicant:ホシザキ電機株式会社
-
電解水製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-301723
Applicant:ホシザキ電機株式会社
-
水の製造方法及び得られた水
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-139190
Applicant:有限会社コヒーレントテクノロジー
-
対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む 水の製造方法及び得られた水
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-334572
Applicant:有限会社コヒーレントテクノロジー
-
電解水生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-305899
Applicant:ホシザキ電機株式会社
-
純水の電解による水素イオンまたは水酸イオンと酸化還元物質が共存した液およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-346494
Applicant:澄田修生, 橋本寿正
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