パターン欠陥検査方法およびその装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：作田康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002267554
Publication number (International publication number)：2003177102
Application date： Sep. 13, 2002
Publication date： Jun. 27, 2003
Summary：

【要約】【課題】本発明は,微細な回路パターンを高い分解能で検出し,欠陥を検出する方法及び装置を提供することにある。【解決手段】試料の像を検出する対物レンズと,その瞳に対して照明を行うレーザ照明手段と,レーザ照明の可干渉性を低減する手段と,蓄積型の検出器と,その検出信号を処理する手段とからなる。

Claim (excerpt)：

レーザ光を出射するレーザ光源と、該レーザ光源から出射したレーザ光の光量を調整する光量調整手段と、該光量調整手段から出射したレーザ光の照明範囲を形成する照明範囲形成手段と、該照明範囲形成手段から出射したレーザ光の可干渉性を低減して試料上に照射する照射手段と、該照射手段により可干渉性が低減されて照射された試料を撮像して画像信号を検出する画像検出手段と、該画像検出手段で検出された検出画像信号に関する情報に基づいて試料に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (6)：

G01N 21/956 , G01B 11/30 , G06T 1/00 305 , G06T 1/00 400 , G06T 5/00 100 , G06T 5/00 300

FI (6)：

G01N 21/956 A , G01B 11/30 A , G06T 1/00 305 A , G06T 1/00 400 D , G06T 5/00 100 , G06T 5/00 300

F-Term (68)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065DD03 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065GG04 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL00 , 2F065LL06 , 2F065LL10 , 2F065LL13 , 2F065LL32 , 2F065LL36 , 2F065LL49 , 2F065QQ03 , 2F065QQ07 , 2F065QQ24 , 2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AA73 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051DA07 , 2G051DA08 , 2G051EA04 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EC03 , 2G051ED07 , 2G051FA10 , 5B047AA12 , 5B047AB02 , 5B047BA01 , 5B047BB01 , 5B047BC05 , 5B047BC07 , 5B047BC09 , 5B047BC11 , 5B047BC14 , 5B047BC18 , 5B047BC23 , 5B047CB22 , 5B047DC09 , 5B057AA03 , 5B057BA15 , 5B057BA19 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CE02 , 5B057CE06 , 5B057CE11 , 5B057CH01 , 5B057CH11 , 5B057DA03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

パターン検査装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-116202 Applicant：株式会社日立製作所
被検査パターンの欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-128197 Applicant：株式会社日立製作所
検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-234268 Applicant：株式会社東芝

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Cited by examiner (10)

パターン欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-206866 Applicant：株式会社日立製作所
検査装置及び検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-345467 Applicant：ソニー株式会社
パターン欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-362216 Applicant：株式会社日立製作所

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