ラクトン部分を有する環式オレフィン・ポリマを有するフォトレジスト組成

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：坂口博 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001130763
Publication number (International publication number)：2002014472
Application date： Apr. 27, 2001
Publication date： Jan. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】 193nmイメージング放射線を用いる高解像リソグラフィ性能を可能にするフォトレジスト組成、及びこのフォトレジスト組成を用いるリソグラフィ法を提供すること。【解決手段】酸性触媒作用ポジティブ・フォトレジスト組成が、ラクトン部分を有する環式オレフィン・モノマを有する環式オレフィン・ポリマを含むレジスト組成の使用により可能になる。フォトレジストは193nmの放射線によりイメージング可能で、現像されて、改善された現像特性及び改善された耐エッチング性を有するフォトレジスト構造を形成する。モノマは、ラクトン部分と環式オレフィン環との間に介在する酸素原子を有さない。好適なラクトン部分は、環式オレフィン環に直接結合されるスピロラクトン(5員環または6員環)である。

Claim (excerpt)：

a)環式オレフィン・ポリマと、b)感光性酸生成剤とを含むフォトレジスト組成物であって、前記環式オレフィン・ポリマが、i)水溶性アルカリ溶液内での溶解性を抑制する酸活性部分を有する、環式オレフィン単位と、ii)ラクトン部分と環式オレフィン環との間の介在部分に酸素原子が存在しない、前記ラクトン部分を有する環式オレフィン・モノマ単位とを含むフォトレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/11 , G03F 7/40 521 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/11 , G03F 7/40 521 , H01L 21/30 502 R

F-Term (23)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025DA40 , 2H025FA17 , 2H025FA35 , 2H096AA27 , 2H096BA11 , 2H096EA03 , 2H096EA04 , 2H096GA08 , 2H096HA23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト、パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-022919 Applicant：沖電気工業株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-312722 Applicant：富士通株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-277570 Applicant：富士通株式会社

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