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J-GLOBAL ID:200903070873376353

水処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 藤本 昇 ,  薬丸 誠一 ,  中谷 寛昭 ,  小山 雄一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008024706
Publication number (International publication number):2009183825
Application date: Feb. 05, 2008
Publication date: Aug. 20, 2009
Summary:
【課題】 硝化細菌の繁殖によるろ過膜の目詰まりを抑制できる水処理装置を提供することを課題としている。 【解決手段】 硝化細菌の栄養となる成分が含まれている被処理水をろ過処理するろ過膜が備えられている水処理装置であって、ろ過処理前の前記被処理水をpH2〜7に調整すべく前記被処理水にpH調整剤を添加するpH調整手段、ろ過処理前の前記被処理水の溶存酸素を低減すべく前記被処理水に還元剤を添加する還元剤添加手段、および、ろ過処理前の被処理水に硝化細菌生育阻害薬剤を添加する薬剤添加手段、のうちの少なくとも1種が備えられている水処理装置を提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
硝化細菌の栄養となる成分が含まれている被処理水をろ過処理するろ過膜が備えられている水処理装置であって、 ろ過処理前の前記被処理水をpH2〜7に調整すべく前記被処理水にpH調整剤を添加するpH調整手段、 ろ過処理前の前記被処理水の溶存酸素を低減すべく前記被処理水に還元剤を添加する還元剤添加手段、および、 ろ過処理前の被処理水に硝化細菌生育阻害薬剤を添加する薬剤添加手段、のうちの少なくとも1種が備えられていることを特徴とする水処理装置。
IPC (8):
C02F 1/44 ,  B01D 65/08 ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/14 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/70 ,  B01D 61/04 ,  B01D 61/16
FI (17):
C02F1/44 C ,  B01D65/08 ,  B01D61/02 500 ,  B01D61/14 500 ,  C02F1/50 510C ,  C02F1/70 Z ,  B01D61/04 ,  B01D61/16 ,  C02F1/50 520C ,  C02F1/50 520P ,  C02F1/50 560E ,  C02F1/50 532J ,  C02F1/50 532D ,  C02F1/50 532H ,  C02F1/50 531K ,  C02F1/50 550C ,  C02F1/50 550L
F-Term (50):
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA61 ,  4D006KA03 ,  4D006KA33 ,  4D006KA64 ,  4D006KC21 ,  4D006KD02 ,  4D006KD06 ,  4D006KD11 ,  4D006KD12 ,  4D006KD14 ,  4D006KD15 ,  4D006KD26 ,  4D006KD30 ,  4D006KE07P ,  4D006KE15P ,  4D006KE15Q ,  4D006KE15R ,  4D006KE30P ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA25 ,  4D006MC18 ,  4D006MC33 ,  4D006MC54 ,  4D006MC62 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB06 ,  4D006PB08 ,  4D006PC01 ,  4D006PC11 ,  4D006PC41 ,  4D006PC51 ,  4D050AA03 ,  4D050AA05 ,  4D050AA13 ,  4D050AA15 ,  4D050AB32 ,  4D050BA06 ,  4D050BA07 ,  4D050BA12 ,  4D050BD08 ,  4D050CA09 ,  4D050CA12 ,  4D050CA13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (9)
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