複合体とその調製法および処理法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉村暁秀 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999160475
Publication number (International publication number)：2000345037
Application date： Jun. 08, 1999
Publication date： Dec. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】安定性、耐熱性、発光強度を高める。【解決手段】ゾル-ゲル法により得た発光体分散ORMOSIL 複合体を、ヘキサメチルジシラザンで撥水化処理、あるいはアンモニウム処理する。

Claim (excerpt)：

ヘキサメチルジシラザンで処理された、ユウロピウムフェナントロリン錯体分散ORMOSIL 複合体。

IPC (9)：

C08L 83/02 , C07C 49/92 , C08G 77/02 , C08K 5/56 , G02B 1/00 , H01S 3/06 , C07D471/04 112 , C07F 5/00 , C07F 7/18

FI (9)：

C08L 83/02 , C07C 49/92 , C08G 77/02 , C08K 5/56 , G02B 1/00 , H01S 3/06 B , C07D471/04 112 , C07F 5/00 D , C07F 7/18 Y

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

固体マトリックス内に導入した希土類錯体発光材料の製造
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-037882 Applicant：足立吟也
希土類錯体複合発光材料を用いる光変調増感型太陽電池の製造
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-037883 Applicant：足立吟也
希土類錯体を含む複合薄膜およびその製造方法および複合薄膜を用いた光学材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-141088 Applicant：ダイセル化学工業株式会社

Show all

Cited by examiner (2)

固体マトリックス内に導入した希土類錯体発光材料の製造
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-037882 Applicant：足立吟也
希土類錯体複合発光材料を用いる光変調増感型太陽電池の製造
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-037883 Applicant：足立吟也

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

「日本化学会第76春季年会-講演予稿集I」(平成11年3月15日)社団法人日本化学会発行, p.377
「1999年年会講演予稿集」(平成11年3月25日)社団法人日本セラミックス協会発行, p.251-252
伊藤邦雄編「シリコーンハンドブック」(平成2年8月31日)日刊工業新聞社発行, p.287-293

Return to Previous Page