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J-GLOBAL ID：200903071108030909

ポジ型感光性組成物

Inventor： 藤田 淳 ,  亀山 泰弘 ,  落合 為一 ,  塚本 美智徳 ,  新実 高明
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996051595
Publication number (International publication number)：1997236921
Application date： Mar. 08, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：

【要約】【課題】 高解像力でかつ耐熱性が良好なポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂または該水酸基が酸不安定基で保護された樹脂及び光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物に於て、フェノール性、水酸基含有アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が6000〜60000であり分子量が4000以下の成分が10重量%以下、分子量4000〜70000の成分が80重量%以上であることを特徴とするポジ型感光性組成物。

Claim (excerpt)：

フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂または該水酸基が酸不安定基で保護された樹脂及び光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物に於て、フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が6000〜60000であり、分子量4000未満の成分が10重量%以下、分子量4000〜70000の成分が80重量%以上であることを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-125006   Applicant：株式会社東芝
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-037541   Applicant：日本電信電話株式会社, 信越化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-116722   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 化学増幅型レジスト溶液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-048634   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-065740   Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
• 化学増幅系レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-203610   Applicant：富士通株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-005795   Applicant：住友化学工業株式会社
• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-303235   Applicant：日本ゼオン株式会社, 富士通株式会社
• パターン形成材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-125678   Applicant：信越化学工業株式会社
• レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-115308   Applicant：信越化学工業株式会社