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J-GLOBAL ID:200903071383346240
発光ダイオード
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996217339
Publication number (International publication number):1998065211
Application date: Aug. 19, 1996
Publication date: Mar. 06, 1998
Summary:
【要約】【課題】 光の取出し効率の向上した高出力の発光ダイオードを工業的有利に提供する。【解決手段】 GaP基板上にGaAs<SB>1-x</SB>P<SB>x</SB>(0.45<x<1)エピタキシャsル層を有してなるPN接合型発光ダイオードであって、GaP基板が上面となる構造とする。
Claim (excerpt):
GaP基板上にGaAs<SB>1-x</SB> P<SB>x</SB> (0.45<x<1)エピタキシャル層を有してなるPN接合型発光ダイオードであって、GaP基板が上面となる構造としたことを特徴とする発光ダイオード。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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光半導体デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-060948
Applicant:スタンレー電気株式会社
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発光ダイオード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-218470
Applicant:三菱化学株式会社
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窒化ガリウム系化合物半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-100215
Applicant:日亜化学工業株式会社
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-351646
Applicant:株式会社東芝
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発光ダイオ-ド用エピタキシャルウエハの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-079018
Applicant:株式会社エピテックス
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特開昭60-007721
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特開昭60-105241
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特公昭51-023868
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