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J-GLOBAL ID：200903071930869104

線幅測定装置及び方法

Clips

Inventor： 伊藤 良延
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 猪熊 克彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998030600
Publication number (International publication number)：1999211421
Application date： Jan. 27, 1998
Publication date： Aug. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】周期構造を持つ微細なラインアンドスペースパターンの線幅を容易に測定することができる線幅測定装置及び方法を提供する。【解決手段】一定の方向Lに一定のピッチdにて複数本の線を配置したラインアンドスペースパターンSの各々の線の線幅eを測定する線幅測定装置において、パターンSに偏光光U1を入射し、パターンSからの反射光U2の偏光状態を測定することによって、パターンSで反射する際に生じる偏光光U1の偏光状態の変化量を測定し、偏光状態の変化量に基づいて、線幅eを測定することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

一定の方向に一定のピッチにて複数本の線を配置したラインアンドスペースパターンの前記各々の線の線幅を測定する線幅測定装置において、前記パターンに偏光光を入射し、前記パターンからの反射光の偏光状態を測定することによって、前記パターンで反射する際に生じる前記偏光光の偏光状態の変化量を測定し、該偏光状態の変化量に基づいて、前記線幅を測定することを特徴とする線幅測定装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• パターン形成状態検出装置及びそれを用いた投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-139610   Applicant：キヤノン株式会社
• 加工寸法測定方法、半導体装置の製造方法および品質管理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-306873   Applicant：富士通株式会社