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J-GLOBAL ID：200903072813623117

微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法

Inventor： 日置 毅 ,  前田 成実 ,  花元 幸夫
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000288257
Publication number (International publication number)：2002099098
Application date： Sep. 22, 2000
Publication date： Apr. 05, 2002
Summary：

【要約】【課題】 フィルターの目詰まりを抑制し、濾過時間を短縮し得る微細粒子の低減されたフォトレジスト組成物を製造する方法を提供する。【解決手段】 フォトレジスト組成物をポリエチレン製の膜及びポリテトラフルオロエチレン製の膜からなる複合膜で構成されているフィルターに通過させることを特徴とする微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。

Claim (excerpt)：

フォトレジスト組成物をポリエチレン製の膜及びポリテトラフルオロエチレン製の膜からなる複合膜で構成されているフィルターに通過させることを特徴とする微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。

IPC (6)：

G03F 7/38 501 ,  B01D 61/58 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/36 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/38 501 ,  B01D 61/58 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/36 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (16)：

2H096AA25 ,  2H096CA14 ,  2H096CA20 ,  4D006GA02 ,  4D006KA12 ,  4D006KA41 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006MA08 ,  4D006MA22 ,  4D006MC22 ,  4D006MC30 ,  4D006PA02 ,  4D006PB70 ,  4D006PC80

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 積層型フィルタエレメント
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-161529   Applicant：ポール・コーポレーション
• ホトレジスト溶液供給方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-186607   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物の調製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-046454   Applicant：住友化学工業株式会社
• キノンジアジドスルホン酸エステルの製法及び該製法により得られたキノンジアジドスルホン酸エステルを含有してなる感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-039756   Applicant：住友化学工業株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-307366   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-032512   Applicant：三菱化学株式会社
• フィルタ用ろ材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-223709   Applicant：日東電工株式会社