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J-GLOBAL ID:200903072908544265
近接場光プローブを用いたレーザ光励起エッチング加工装置及び加工方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高橋 陽介 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000086034
Publication number (International publication number):2001269781
Application date: Mar. 27, 2000
Publication date: Oct. 02, 2001
Summary:
【要約】【課題】 被加工物への損傷が少なく、加工変質層も少ない、加工精度を飛躍的に向上させた近接場光を用いたレーザ光励起エッチング加工装置及びその加工方法を提供する。【解決手段】 反応槽60内の反応ガスを光励起して、被加工物40にエッチング加工を施す光励起エッチング加工装置10Aにおいて、近接場光の光源となるレーザ発振器20と、近接場光を発生させる近接場光プローブ100と、反応槽60に設けられるウィンドウ62を介して、レーザ発振器20のレーザ光Lを集光して近接場光プローブ100に入射させる集光レンズ30とを備えた構成とした。この場合、近接場光プローブ100の開口部120と被加工物40との距離を検出するオンライン検出器を備えた構成とすると、加工精度を一層向上させることができる。
Claim (excerpt):
反応槽内の反応ガスを光励起して、被加工物にエッチング加工を施す光励起エッチング加工装置において、上記光励起手段として近接場光を発生させる近接場光プローブを用いたことを特徴とする近接場光プローブを用いたレーザ光励起エッチング加工装置。
IPC (5):
B23K 26/00
, B23K 26/08
, B23K 26/12
, C23F 4/04
, H01L 21/302
FI (6):
B23K 26/00 E
, B23K 26/00 M
, B23K 26/08 K
, B23K 26/12
, C23F 4/04
, H01L 21/302 Z
F-Term (31):
4E068AH00
, 4E068CC06
, 4E068CE08
, 4E068CJ01
, 4K057DA11
, 4K057DB05
, 4K057DB06
, 4K057DB20
, 4K057DD06
, 4K057DE01
, 4K057DE06
, 4K057DG20
, 4K057DJ07
, 4K057DN01
, 4K057DN03
, 4K057DN10
, 5F004BA19
, 5F004BA20
, 5F004BB03
, 5F004BB04
, 5F004BB30
, 5F004BB31
, 5F004CA05
, 5F004CB01
, 5F004DA04
, 5F004DA18
, 5F004DB00
, 5F004DB01
, 5F004DB03
, 5F004DB09
, 5F004EA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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パターニング方法およびパターニング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-169154
Applicant:財団法人神奈川科学技術アカデミー
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微小パターンの作製方法及び作製装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-193791
Applicant:キヤノン株式会社
-
光アシストパターン形成方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-121300
Applicant:日本電気株式会社
-
ウエハの微細加工法およびそれに用いる装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-302750
Applicant:大同ほくさん株式会社
-
分光分析機構を有する原子間力顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-215007
Applicant:トヨタ自動車株式会社
-
熱分光測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-298707
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
レーザ加工装置及び方法とこれを用いて加工された光学素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-051975
Applicant:日本非球面レンズ株式会社, 實野孝久
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