光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山川政樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000556280
Publication number (International publication number)：2002519843
Application date： Jun. 18, 1999
Publication date： Jul. 02, 2002
Summary：

【要約】【課題】光学系において不均一な温度分布により必然的に起こる結像ずれを単純な手段によって補正又は最小にすることができる光学系を提供すること。【解決手段】特にスリット状視野又は回転対称形でない照明を有する光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置は、マウント部(2)に配設されている光学要素(1)、光学要素(1)に少なくとも光軸に対しほぼ垂直に作用する作動部材(3)とを有する。作動部材(3)は、ほぼ厚さの変化を伴わずに生じる曲がりを発生させるために回転対称形でなく且つ半径方向から外れた力及び/又はモーメントを光学要素(1)に対し作用するように発生する。

Claim (excerpt)：

特にスリット状視野又は回転対称形でない照明を有し、マウント部に配設されている光学要素、特にレンズ又はミラーと、光学要素及びマウント部のいずれか又は双方に作用する作動部材とを有する光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置において、作動部材(3)は、厚さの変化を伴わずに起こる曲がりを発生させるために、回転対称形ではなく且つ半径方向から外れた力及びモーメントのいずれか又は双方を光学要素(1)に対し発生させることを特徴とする光学系。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/22

FI (3)：

G03F 7/22 H , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 516 A

F-Term (5)：

5F046CB02 , 5F046CB12 , 5F046CB20 , 5F046CB25 , 5F046DA13

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

露光方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-318163 Applicant：株式会社日立製作所
反射ミラー保持装置及び投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-318656 Applicant：株式会社ニコン
レンズ移動装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-019601 Applicant：キヤノン株式会社

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Cited by examiner (8)

露光方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-318163 Applicant：株式会社日立製作所
反射ミラー保持装置及び投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-318656 Applicant：株式会社ニコン
レンズ移動装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-019601 Applicant：キヤノン株式会社

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