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J-GLOBAL ID:200903074831297998
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000021687
Publication number (International publication number):2001215704
Application date: Jan. 31, 2000
Publication date: Aug. 10, 2001
Summary:
【要約】【課題】 感度、解像度、基板への接着性などのレジスト諸性能が良好で、アルカリ現像液への濡れ性にも優れた化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (メタ)アクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位〔下式(I)〕及びラクトン環がアルキルで置換されていてもよいβ-(メタ)アクリロイロキシ-γ-ブチロラクトンの重合単位〔下式(II)〕を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt):
(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位及びラクトン環がアルキルで置換されていてもよいβ-(メタ)アクリロイロキシ-γ-ブチロラクトンの重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (3):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
F-Term (13):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-152862
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-158693
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-158695
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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