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J-GLOBAL ID：200903027988857492

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎

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児玉 邦彦

About 児玉 邦彦

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青合 利明

About 青合 利明


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999158695
Publication number (International publication number)：2000347409
Application date： Jun. 04, 1999
Publication date： Dec. 15, 2000
Summary：
【要約】【課題】 250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用に好適であり、250nm以下、特に220nm以下の露光光源に好適であり、有機溶媒に溶解したとき、樹脂に対する相溶性が良好で、その溶液の経時安定性が優れ、かつ短波長光源に対して、感度、解像度が優れたポジ型感光性組成物を提供することである。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の構造の化合物と、特定の多環型の脂環式基を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基とを有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt)：
(A)下記一般式〔I〕又は一般式〔II〕で表される、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)下記一般式(BI)で表される繰り返し単位を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリに対する溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(BI)中:Rb1は、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。Rb2〜Rb4は、各々独立に、水素原子又は水酸基を表す。ただし、Rb2〜Rb4のうち少なくとも1つは、水酸基を表す。【化2】式〔I〕、〔II〕中、R1 〜R5 はそれぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基を表す。a:1〜5、b:1〜5、l:1〜5、m:0〜5、n:0〜5を表す。但し、R1 、R2 の少なくとも一方は、炭素数5個以上の、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基を表す。l+m+n=1の時、R3 は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基を表す。X:R-SO3 、R:置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。
IPC (2)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (14)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CB13 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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