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J-GLOBAL ID：200903088016742937

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999158693
Publication number (International publication number)：2000347408
Application date： Jun. 04, 1999
Publication date： Dec. 15, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用時に、現像欠陥やスカムの発生が軽減され、且つ疎密依存性が改良されたポジ型感光性組成物の提供。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、下記一般式(BI)の多環型の脂環式基を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基とを有する樹脂、及び酸の作用で分解し、スルホン酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物。式中Rb1は、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を、Rb2〜Rb4は、水素原子又は水酸基を表す。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)下記一般式(BI)で表される繰り返し単位を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリに対する溶解性が増大する樹脂、及び(C)酸の作用により分解し、スルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(BI)中:Rb1は、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。Rb2〜Rb4は、各々独立に、水素原子又は水酸基を表す。ただし、Rb2〜Rb4のうち少なくとも1つは、水酸基を表す。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (51)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC07 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB52 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H097CA13 ,  2H097CA15 ,  2H097CA16 ,  2H097CA17 ,  2H097FA03 ,  2H097JA03 ,  2H097LA10 ,  4J002BE041 ,  4J002BF011 ,  4J002BG011 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG081 ,  4J002BG091 ,  4J002BG131 ,  4J002BH021 ,  4J002BQ001 ,  4J002DG016 ,  4J002EB106 ,  4J002EN048 ,  4J002EU036 ,  4J002EU048 ,  4J002EU088 ,  4J002EU118 ,  4J002EU128 ,  4J002EU138 ,  4J002EU186 ,  4J002EU188 ,  4J002EU216 ,  4J002EU238 ,  4J002EV036 ,  4J002EV216 ,  4J002EV236 ,  4J002EV306 ,  4J002FD156 ,  4J002FD312 ,  4J002FD317 ,  4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-282664   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• ビニル基を含有する単量体及びその重合体及びそれを用いた感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-280695   Applicant：日本電気株式会社
• 放射線感応性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-156429   Applicant：沖電気工業株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-246873   Applicant：信越化学工業株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-272803   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-082855   Applicant：富士写真フイルム株式会社