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J-GLOBAL ID：200903075532693743

露光方法及びこれを遂行するためのレチクル、レチクルアセンブリー及び露光装置

Inventor：
朴 炳 ▲てつ▼

About 朴 炳 ▲てつ▼

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李 相 昊

About 李 相 昊

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蔡 勝 基

About 蔡 勝 基

, 
申 東 和

About 申 東 和


Applicant, Patent owner：
三星電子株式会社

About 三星電子株式会社


Agent (5)： 八田 幹雄 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸 ,  藤井 敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004364127
Publication number (International publication number)：2005197678
Application date： Dec. 16, 2004
Publication date： Jul. 21, 2005
Summary：
【課題】露光工程の時間的な損失を減少するための露光方法を提供する。【解決手段】ウエハーW上の少なくとも一つのダイ領域を含む複数のショット領域に対する第1露光工程はレチクルRを通した照明光を用いて遂行され、ウエハーWのエッジ部位と隣接するダイ領域に対する2次露光工程はレチクルに隣接して配置される光透過部材102を通過した照明光によって遂行される。光透過部材は、照明光を通過させるための四角リボン形状の光透過領域を含み、ウエハーは、光透過領域を通過した照明光がウエハーのエッジ部位と隣接するダイ領域をスキャンするように移動する。第1露光工程から第2露光工程へ移行する際にレチクルRの交換が不要になる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
イメージ情報を含む投影光でフォトレジスト膜が形成されたウエハー上に設定された少なくとも一つのダイ領域を含む複数のショット領域上にイメージを投影する段階と、 走査光で前記ウエハーのエッジ部位と隣接するダイ領域をスキャンする段階と、を含むことを特徴とする露光方法。
IPC (2)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2)：
H01L21/30 577 ,  G03F7/20 521
F-Term (3)：
5F046AA28 ,  5F046CC14 ,  5F046JA15
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 米国特許第6、331、885号明細書
  • 米国特許第6、538、719号明細書
Cited by examiner (11)
  • 特開平3-237459
  • 走査型露光装置および露光方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-210305   Applicant：キヤノン株式会社
  • 特開平1-261821
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