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J-GLOBAL ID：200903076032292889

積層構造体、積層構造体を用いた電子素子、電子素子を用いた電子素子アレイ、積層構造体の製造方法および電子素子の製造方法

Inventor：
田野 隆徳

About 田野 隆徳

, 
山賀 匠

About 山賀 匠


Applicant, Patent owner：
株式会社リコー

About 株式会社リコー


Agent (1)： 鳥居 洋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005079419
Publication number (International publication number)：2006261535
Application date： Mar. 18, 2005
Publication date： Sep. 28, 2006
Summary：
【課題】 簡便に微細なパターンの形成が可能であって、かつ、パターン形成以外に高付加価値機能を有する積層構造体を提供する。【解決手段】 積層構造体1は、エネルギーの付与によって臨界表面張力が変化する材料を含み、臨界表面張力が相対的に大きな高表面エネルギー部3と臨界表面張力が相対的に小さな低表面エネルギー部4との少なくとも臨界表面張力が異なる2つの部位を有する濡れ性変化層2と、濡れ性変化層2の高表面エネルギー部3に形成された導電層5と、濡れ性変化層2の低表面エネルギー部4に少なくとも接して設けられた半導体層6とを備える。そして、濡れ性変化層2は、ハロゲン化物を含む高分子材料からなる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
エネルギーの付与によって臨界表面張力が変化する材料を含み、前記臨界表面張力が相対的に大きな高表面エネルギー部と前記臨界表面張力が相対的に小さな低表面エネルギー部との少なくとも臨界表面張力が異なる2つの部位を有する濡れ性変化層と、 前記濡れ性変化層の前記高表面エネルギー部に形成された導電層と、 前記濡れ性変化層の前記低表面エネルギー部に少なくとも接して設けられた半導体層とを備え、 前記濡れ性変化層は、ハロゲン化物を含む高分子材料からなる、積層構造体。
IPC (4)：
H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/28 ,  H01L 51/05
FI (7)：
H01L29/78 627C ,  H01L21/28 A ,  H01L21/28 301B ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 616K ,  H01L29/78 617T ,  H01L29/28
F-Term (43)：
4M104AA08 ,  4M104AA09 ,  4M104AA10 ,  4M104BB05 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB36 ,  4M104CC05 ,  4M104DD22 ,  4M104DD28 ,  4M104DD51 ,  4M104EE03 ,  4M104EE18 ,  4M104GG08 ,  4M104HH14 ,  4M104HH20 ,  5F110AA16 ,  5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110CC03 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD05 ,  5F110EE03 ,  5F110EE42 ,  5F110EE43 ,  5F110EE45 ,  5F110FF01 ,  5F110FF09 ,  5F110GG05 ,  5F110GG42 ,  5F110HK01 ,  5F110HK32 ,  5F110HK41 ,  5F110HM19 ,  5F110NN02 ,  5F110NN22 ,  5F110NN24 ,  5F110NN33 ,  5F110NN35 ,  5F110NN71 ,  5F110NN72 ,  5F110QQ01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)
  • パターン形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-267054   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • インクジェット記録ヘッドの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-316633   Applicant：セイコーエプソン株式会社
  • 溶液処理
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-547679   Applicant：プラスティックロジックリミテッド, セイコーエプソン株式会社

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