プラズマ処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：千葉剛宏 , 宮寺利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004028284
Publication number (International publication number)：2005222779
Application date： Feb. 04, 2004
Publication date： Aug. 18, 2005
Summary：

【課題】線状電極と筒状電極を有する例えば同軸円筒型のリアクタを用いたパルスコロナ放電によるプラズマ処理を効率よく行えるようにして、プラズマ処理の適用範囲を広げる。【解決手段】プラズマ処理装置10は、直流入力電圧Vinの供給によって高電圧パルスVL(又は高電圧パルスVLを含む高電圧パルス列Pc)を発生するパルス電源12と、該パルス電源12に接続され、該パルス電源12にて発生された高電圧パルスVL(又は高電圧パルスVLを含む高電圧パルス列Pc)によって均一なストリーマ放電領域14を発生させて、パルスコロナ放電によるNOx処理を促進させるリアクタ16とを有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

高電圧パルスを発生するパルス電源と、前記パルス電源に接続され、該パルス電源にて発生された高電圧パルスによって放電を発生するリアクタとを有し、前記リアクタは、パルス電源に接続された線状電極と、一定の電位に固定された筒状電極とを有し、該筒状電極の中空部に前記線状電極が挿入されて構成され、前記パルス電源にて生成される前記高電圧パルスは、立ち上がり時における電圧上昇率(dV/dt)が1011(V/s)以上であることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4)：

H05H1/24 , B01J19/08 , H01T19/00 , H05H1/46

FI (5)：

H05H1/24 , B01J19/08 E , H01T19/00 , H05H1/46 R , B01D53/34 129C

F-Term (26)：

4C080AA07 , 4C080BB02 , 4C080CC01 , 4C080HH02 , 4C080KK02 , 4C080LL01 , 4C080QQ11 , 4D002AA12 , 4D002BA07 , 4D002GA01 , 4D002GB20 , 4D002HA10 , 4G075AA37 , 4G075BA05 , 4G075BC06 , 4G075CA15 , 4G075CA47 , 4G075DA02 , 4G075EB41 , 4G075EC21 , 4G075EE02 , 4G075EE07 , 4K030BA36 , 4K030BA42 , 4K030FA01 , 4K030KA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

特許第2649340号公報
窒素酸化物分解装置のプラズマ反応容器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-259884 Applicant：三井造船株式会社

Cited by examiner (6)

放電ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-158515 Applicant：日新電機株式会社
放電ガス処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-308100 Applicant：日新電機株式会社
排ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-155929 Applicant：三菱重工業株式会社

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