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J-GLOBAL ID:200903077732765067

ガス分離膜とその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 萩原 亮一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998136245
Publication number (International publication number):1999319521
Application date: May. 19, 1998
Publication date: Nov. 24, 1999
Summary:
【要約】【課題】 薄膜化されているが強度の高いメンブレンリアクター用に適する水素分離膜を提供すること。【解決手段】 多孔質基体上に積層された少なくとも一つのガス分離層を有し、該ガス分離層は薄膜化されたことを特徴とするガス分離膜。
Claim (excerpt):
多孔質基体上に積層された少なくとも一つのガス分離層を有し、該ガス分離層は薄膜化されたことを特徴とするガス分離膜。
IPC (3):
B01D 71/02 500 ,  C04B 41/85 ,  C10K 3/00
FI (3):
B01D 71/02 500 ,  C04B 41/85 C ,  C10K 3/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (17)
  • 特開昭62-273030
  • ガス分離体の製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-094321   Applicant:日本碍子株式会社
  • ガス分離体及びその製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-073449   Applicant:日本碍子株式会社
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