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J-GLOBAL ID:200903077901025205

半導体発光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995275399
Publication number (International publication number):1996213652
Application date: Oct. 24, 1995
Publication date: Aug. 20, 1996
Summary:
【要約】【目的】 クラッド層の構造を最適化することにより、素子特性の向上、コスト低減を達成すること。【構成】 第1導電型のAlGaAsP又はAlGaAsからなる第1クラッド層と、該第1クラッド層に隣接して、第1導電型のAlGaInP又はAlInPからなる厚さ0.5μm以下の第2クラッド層と、該第2のクラッド層に隣接して、第1又は第2導電型のAlGaInP又はGaInPからなる厚さ0.1〜1μmの活性層と、該活性層に隣接して、第2導電型のAlGaInP又はAlInPから成る厚さ0.5μm以下の第3クラッド層と、該第3クラッド層に隣接して、第2導電型のAlGaP又はGaPからなる光取り出し層を有することを特徴とする半導体発光装置。
Claim (excerpt):
第1導電型のAlGaAsP又はAlGaAsからなる第1クラッド層と、該第1クラッド層に隣接して、第1導電型のAlGaInP又はAlInPからなる厚さ0.5μm以下の第2クラッド層と、該第2のクラッド層に隣接して、第1又は第2導電型のAlGaInP又はGaInPからなる厚さ0.1〜1μmの活性層と、該活性層に隣接して、第2導電型のAlGaInP又はAlInPから成る厚さ0.5μm以下の第3クラッド層と、該第3クラッド層に隣接して、第2導電型のAlGaP又はGaPからなる光取り出し層を有することを特徴とする半導体発光装置。
IPC (2):
H01L 33/00 ,  H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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