オゾン水製造装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内山充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999112832
Publication number (International publication number)：2000302413
Application date： Apr. 20, 1999
Publication date： Oct. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】電子材料のウェット洗浄工程などにおいて、オゾン水を長距離送給しても、送給中におけるオゾン濃度の低下が少ないオゾン水を製造することができるオゾン水製造装置を提供する。【解決手段】紫外線照射装置を備えた超純水製造装置と、該超純水製造装置で製造された超純水にオゾンを溶解するオゾン溶解装置とを有するオゾン水製造装置であって、紫外線照射装置の上流側又は下流側において水中の有機体炭素(TOC)を測定し、有機体炭素の量に応じて紫外線照射装置の紫外線照射量を調整する紫外線照射量調整装置を設けてなることを特徴とするオゾン水製造装置。

Claim (excerpt)：

紫外線照射装置を備えた超純水製造装置と、該超純水製造装置で製造された超純水にオゾンを溶解するオゾン溶解装置とを有するオゾン水製造装置であって、紫外線照射装置の上流側又は下流側において水中の有機体炭素(TOC)を測定し、有機体炭素の量に応じて紫外線照射装置の紫外線照射量を調整する紫外線照射量調整装置を設けてなることを特徴とするオゾン水製造装置。

IPC (3)：

C01B 13/10 , B01F 1/00 , H01L 21/304 648

FI (3)：

C01B 13/10 D , B01F 1/00 A , H01L 21/304 648 K

F-Term (4)：

4G035AA01 , 4G035AE13 , 4G042CA03 , 4G042CE01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

オゾン水製造方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-188539 Applicant：オルガノ株式会社
紫外線分解装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-000330 Applicant：オルガノ株式会社
超純水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-150890 Applicant：栗田工業株式会社

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Cited by examiner (5)

純水供給システム及び洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-264545 Applicant：株式会社フロンテック, オルガノ株式会社, 大見忠弘
超純水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-279434 Applicant：栗田工業株式会社
オゾン水製造方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-188539 Applicant：オルガノ株式会社

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