荷電粒子ビーム装置、その収差補正値算出装置、及びその収差補正プログラム

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人湘洋内外特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007131518
Publication number (International publication number)：2008288024
Application date： May. 17, 2007
Publication date： Nov. 27, 2008
Summary：

【課題】収差補正にかかる時間を短縮する。【解決手段】焦点位置が異なる複数の二次元画像データを検出器20に取得させる補正用画像取得指示部52と、焦点位置が異なる複数の二次元画像データのそれぞれに関して、複数の方向における方向性微分値を求める方向性微分演算部53と、複数の二次元画像データのそれぞれに関する複数の方向における方向性微分値を用いて、予め定められた手法に従って、各収差パラメータを求める収差パラメータ算出部54と、各収差パラメータを用いて、各収差に対する補正値を求める収差補正値算出部55と、補正光学系制御手段に補正値を設定し、収差補正器16により収差補正を実行させる制御部56と、を備ええている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

一次荷電粒子ビームを試料に対して照射することにより発生する二次粒子を検出し、前記荷電粒子ビームの照射領域の二次粒子分布データを任意の合焦点状態で取得する電子光学系と、当該電子光学系で取得した二次粒子分布データを処理する演算処理装置とを備えた荷電粒子ビーム装置において、前記電子光学系は、当該電子光学系により発生する収差の逆収差を与えることにより、前記試料上における前記一次荷電粒子ビームの収差を除去する収差補正器を備え、前記演算処理装置は、合焦点状態が異なる状態で取得された複数の前記試料の二次粒子分布データに対し、該複数の二次粒子分布データ各々における複数の方向の微分値を求め、当該方向微分値の前記合焦点状態に対する分布の非対称度を基に前記収差の収差パラメータを求め、当該得られた収差パラメータを基に前記収差補正器の動作条件を決定することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

IPC (1)：

H01J 37/153

FI (1)：

H01J37/153 B

F-Term (2)：

5C033JJ02 , 5C033JJ07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

収差自動補正方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-419857 Applicant：日本電子株式会社
荷電粒子線装置および自動非点収差調整方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-192664 Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (7)

荷電粒子線装置および自動非点収差調整方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-202904 Applicant：株式会社日立製作所
収差補正器付電子線装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-088092 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ
収差自動補正方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-419858 Applicant：日本電子株式会社

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