近視野光ヘッドの作製方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：坂上正明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002342154
Publication number (International publication number)：2004178663
Application date： Nov. 26, 2002
Publication date： Jun. 24, 2004
Summary：

【課題】高分解能で高S/N比の近視野光ヘッドを、低コストで量産に適した方法で作製する方法を提供すること。【解決手段】基板22を加工して部分的に複数の厚みを持つよう加工する工程と、前記複数の厚みのうち第一の厚みを持つ部分からスライダー24を作製すると同時に、前記複数の厚みのうち第二の厚みを持つ部分からティップ23を作製する工程と、を含むことを特徴とする作製方法とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

回転する記録媒体表面からの空気浮上力を受けるスライダーと、先端に光学的開口を持つ錐状のティップを持ち、前記光学的開口から発生する近視野光を介して前記記録媒体表面と相互作用する近視野光ヘッドの作製方法において、基板を加工して前記基板が部分的に複数の厚みを持つよう加工する工程と、前記複数の厚みのうち第一の厚みを持つ部分から前記スライダーを作製すると同時に、前記複数の厚みのうち第二の厚みを持つ部分から前記ティップを作製する工程と、を含むことを特徴とする近視野光ヘッドの作製方法。

IPC (1)：

G11B7/22

FI (1)：

G11B7/22

F-Term (26)：

5D119AA11 , 5D119AA22 , 5D119AA38 , 5D119AA40 , 5D119BA01 , 5D119CA06 , 5D119CA20 , 5D119DA01 , 5D119DA05 , 5D119EB02 , 5D119JA34 , 5D119MA06 , 5D119NA05 , 5D789AA11 , 5D789AA22 , 5D789AA38 , 5D789AA40 , 5D789BA01 , 5D789CA06 , 5D789CA20 , 5D789DA01 , 5D789DA05 , 5D789EB02 , 5D789JA34 , 5D789MA06 , 5D789NA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

近視野光学ヘッド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-084291 Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
光プローブおよびその製造方法ならびに光ヘッド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-265688 Applicant：ティーディーケイ株式会社
平面型プローブ及びその形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-357201 Applicant：株式会社リコー, 財団法人神奈川科学技術アカデミー

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