フォトリソグラフィ用スピンオンガラス反射防止コーティング

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：川口義雄 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001503571
Publication number (International publication number)：2003502449
Application date： Jun. 08, 2000
Publication date： Jan. 21, 2003
Summary：

【要約】深紫外線フォトリソグラフィ用反射防止コーティング材料は、スピンオンガラス材料に配合された一つ以上の有機光吸収化合物を含有する。適する吸収化合物は、フォトリソグラフィに用いることができる365nm、248nmおよび193nmなどの波長周辺の波長範囲にわたって強く吸収する。吸収スピンオンガラス材料を製造する方法は、スピンオンガラス材料の合成中に、一つ以上の有機吸収化合物をアルコキシシランまたはハロシラン反応体と化合させることを含む。

Claim (excerpt)：

シロキサンポリマーと、約375nmより短い波長における少なくもおよそ10nm幅の波長範囲にわたって光を強く吸収する配合可能な有機吸収化合物とを含んでなる吸収スピンオンガラス組成物。

IPC (7)：

C09D183/04 , C07F 7/18 , C09D 7/12 , G03F 7/004 506 , G03F 7/075 521 , G03F 7/11 503 , H01L 21/027

FI (7)：

C09D183/04 , C07F 7/18 K , C09D 7/12 , G03F 7/004 506 , G03F 7/075 521 , G03F 7/11 503 , H01L 21/30 574

F-Term (36)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025CB33 , 2H025CC02 , 2H025CC20 , 2H025DA34 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ08 , 4H049VQ30 , 4H049VR21 , 4H049VR43 , 4H049VS12 , 4H049VT48 , 4H049VU21 , 4H049VU24 , 4H049VW02 , 4H049VW04 , 4J038DL021 , 4J038DL031 , 4J038GA02 , 4J038GA03 , 4J038GA06 , 4J038GA09 , 4J038GA12 , 4J038GA15 , 4J038JA06 , 4J038JA17 , 4J038JA32 , 4J038JA34 , 4J038JA35 , 4J038JB16 , 4J038JC30 , 4J038KA03 , 5F046PA07 , 5F046PA09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (16)

SOG組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-211898 Applicant：ソニー株式会社
アルカリ可溶性感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-325508 Applicant：新日鐵化学株式会社, 新日本製鐵株式会社
螢光又は光増感マーカー染料で官能化された光硬化性エポキシシリコーン
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-246766 Applicant：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

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