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J-GLOBAL ID:200903082039155909
磁気分離浄化装置および磁気分離浄化方法
Inventor:
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,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高田 幸彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003368354
Publication number (International publication number):2005131479
Application date: Oct. 29, 2003
Publication date: May. 26, 2005
Summary:
【課題】 磁気分離部の水面の変動に対して、良好に磁気物質を分離し、以って高密度のスラッジを安定的に排出可能な、磁気分離浄化装置を提供する。 【解決手段】 円筒状の濾過網を有し、磁気物質を含む被処理流体から汚泥および磁気物質を濾過する回転濾過体と、該回転濾過体に対して水平方向において近接対峙し、回転に伴なって表面上に汚泥および磁気物質を載置して搬送する円筒状の汚泥回収回転体と、該汚泥回収回転体内に軸心を有し、回転体と該回転体の円周上に取り付けた複数の磁石とからなり、少なくとも前記回転濾過体に位置する側を前記汚泥回収回転体の内周面に近接配設され、前記回転濾過体によって濾過された磁気物質を前記汚泥回収回転体の表面上に磁気吸引することによって汚泥を前記汚泥回収回転体の表面上に移送させる磁気回転体と、前記汚泥回収回転体の表面上を搬送される汚泥および磁気物質を掻き取る掻き取り装置とを含んで構成される。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
被処理流体に含まれる汚泥を磁気力を利用して分離し、被処理流体を浄化する磁気分離浄化装置において、
水槽内に配設され、円筒状の濾過網を有し、磁気物質を含む被処理流体から汚泥および磁気物質を濾過する回転濾過体と、
該回転濾過体に対して水平方向において近接対峙し、回転に伴なって表面上に汚泥および磁気物質を載置して搬送する円筒状の汚泥回収回転体と、
該汚泥回収回転体内に軸心を有し、回転体と該回転体の円周上に取り付けた複数の磁石とからなり、少なくとも前記回転濾過体に位置する側を前記汚泥回収回転体の内周面に近接配設され、前記回転濾過体によって濾過された磁気物質を前記汚泥回収回転体の表面上に磁気吸引することによって汚泥を前記汚泥回収回転体の表面上に移送させる磁気回転体と、
前記汚泥回収回転体の表面上を搬送される汚泥および磁気物質を掻き取る掻き取り装置と
を含んで構成されることを特徴とする磁気分離浄化装置。
IPC (7):
B03C1/12
, B01D24/46
, B01D33/06
, B01D33/44
, B01D33/58
, B03C1/00
, C02F11/12
FI (6):
B03C1/12
, B01D33/06 A
, B03C1/00 A
, C02F11/12 D
, C02F11/12 E
, B01D33/36
F-Term (25):
4D026BA03
, 4D026BB01
, 4D026BC24
, 4D026BC26
, 4D026BC29
, 4D026BF06
, 4D026BF11
, 4D026BF28
, 4D059AA03
, 4D059BE11
, 4D059BE13
, 4D059BE53
, 4D059BE55
, 4D059BE56
, 4D059CB18
, 4D059DA16
, 4D059DA17
, 4D059DA23
, 4D059DA70
, 4D059EA05
, 4D059EA06
, 4D059EB03
, 4D059EB05
, 4D059EB06
, 4D059EB11
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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膜磁気分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-078315
Applicant:株式会社日立製作所
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特許第3228430号公報
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回転ドラム型磁気分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-267333
Applicant:株式会社オーツカテック
Cited by examiner (8)
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膜磁気分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-320086
Applicant:株式会社日立製作所
-
膜磁気分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-078315
Applicant:株式会社日立製作所
-
被除去物の磁気分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-264377
Applicant:株式会社日立製作所
-
膜磁気分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-101193
Applicant:株式会社日立製作所
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研削液に含まれる微細スラッジの分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-056553
Applicant:四国工業株式会社
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研削液に含まれる微細スラッジの分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-295005
Applicant:四国工業株式会社
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研削液に含まれるスラッジの分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-279777
Applicant:四国工業株式会社
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液体に含まれるスラッジの分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-327737
Applicant:四国工業株式会社
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