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J-GLOBAL ID：200903082689879782
欠陥データ処理及びレビュー装置
Inventor：
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,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005326123
Publication number (International publication number)：2007134498
Application date： Nov. 10, 2005
Publication date： May. 31, 2007
Summary：
【課題】外観検査装置によって検出された欠陥をレビュー装置で確実に捕らえることができるようにする。【解決手段】レビュー装置での欠陥観察条件を外観検査装置から出力された欠陥特徴量によって可変し、最適化しながらレビューする。例えば、欠陥の大きさに応じて観察倍率を可変し、最大グレーレベル差に応じてフレーム加算数を可変する。【選択図】図8
Claim (excerpt)：
外観検査装置から、被検体を複数回検査して得た欠陥の座標及び特徴量に関する複数の情報を取得する工程と、
前記欠陥の座標を用いて、前記複数の情報の中から、同一の欠陥に対する情報を判別する工程と、
レビューすべき欠陥について、当該欠陥の座標と共に前記特徴量に関する情報をレビュー装置に出力する工程と、
前記レビュー装置において、前記欠陥の座標と特徴量に関する情報を用いて欠陥の画像を取得する工程と、
を有することを特徴とする欠陥データ処理方法。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L21/66 J
, H01L21/66 Z
, G06T1/00 305A
4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106BA04
, 4M106CA38
, 4M106DB07
, 4M106DB18
, 4M106DB20
, 4M106DJ18
, 4M106DJ19
, 4M106DJ20
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057BA29
, 5B057CD05
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC04
, 5B057DC22
Cited by applicant (2)
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部品検査システム
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-307104
Applicant：日本電子株式会社, 日本電子システムテクノロジー株式会社
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欠陥解析装置,検査システム、及び、検査方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平11-337227
Applicant：株式会社日立製作所
Cited by examiner (6)
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