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J-GLOBAL ID:200903044474084160
部品検査システム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
田中 隆秀 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996307104
Publication number (International publication number):1998135288
Application date: Nov. 01, 1996
Publication date: May. 22, 1998
Summary:
【要約】【課 題】 部品検査システムにおけるオペレータの操作量を減少させること。【解決手段】 予備検査された検査部品を特定可能な部品検索情報と、検査部品に存在する欠陥の位置情報およびサイズ情報を有する予備検査情報と、前記検査部品に対する詳細検査用のレビュー装置を用いた詳細検査であるレビューにより得られたレビュー情報とを記憶する検査部品情報データベースと、検査部品保持部材にセットされる検査部品の種類判別情報入力手段および前記種類判別情報入力手段により入力された種類判別情報に対応する検査部品の予備検査情報を前記検査部品情報データベースから読み込む予備検査情報読込手段を有し、読み込まれた予備検査情報に含まれる欠陥の中から選択されたレビューすべき欠陥に関するレビューにより得られたレビュー情報を前記検査部品情報データベースに記憶させるレビュー情報登録手段とを備えた部品検査システム。
Claim (excerpt):
下記の構成要件を備えたことを特徴とする部品検査システム、(A01)予備検査された検査部品を特定するのに役立つ部品検索情報および検査部品に存在する欠陥の位置情報およびサイズ情報を含む予備検査情報を記憶する予備検査情報データベースと、前記検査部品を特定するのに役立つ部品検索情報および前記検査部品に対する詳細検査用の顕微鏡により構成されるレビュー装置を用いた詳細検査であるレビューにより得られたレビュー情報を記憶するレビュー情報データベースとを有する検査部品情報データベース、(A02)真空検査室と、前記真空検査室内に配置された検査部品保持部材を直交するX軸およびY軸方向に移動させて前記検査部品保持部材に保持された検査部品の所定の検査箇所をレビュー位置に移動させるXYテーブルと、画像倍率決定手段が決定した画像倍率に応じた顕微鏡画像を作成する顕微鏡画像撮影手段と、を有する前記レビュー装置、(A03)前記検査部品保持部材にセットされる検査部品の部品検索情報を入力する部品検索情報入力手段と、前記部品検索情報入力手段により入力された部品検索情報を記憶する部品検索情報記憶手段と、前記部品検索情報に対応する検査部品の予備検査情報を前記検査部品情報データベースから読み込む予備検査情報読込手段と、を有する前記レビュー装置、(A04)前記予備検査情報読込手段により読み込まれた前記予備検査情報に含まれる欠陥の中から選択されたレビューすべき欠陥をレビューして得られたレビュー情報を前記検査部品情報データベースに記憶させるレビュー情報登録手段、(A05)前記検査部品保持部材に保持された検査部品がXY平面上の目標座標位置に移動するように前記XYテーブルを移動させる検査部品移動手段、(A06)前記検査部品(W)の予備検査装置で検出された部品位置基準点の前記予備検査装置上のxy座標位置と、前記検査部品保持部材にセットされたときの前記部品位置基準点のレビュー装置上のXY座標位置との位置ずれ量を検出するセット時座標位置ずれ量検出手段と、前記検出された位置ずれ量だけ前記検査部品(W)をXY座標上で移動させて前記部品位置基準点のxy座標位置とXY座標位置とを一致させる基準点一致用移動手段とを有するアライメント補正手段。
IPC (3):
H01L 21/66
, G01N 21/88
, H01J 37/22 502
FI (4):
H01L 21/66 J
, H01L 21/66 Z
, G01N 21/88 E
, H01J 37/22 502 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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特開平4-062858
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半導体ウエハのチップのプロービング時の測定条件設定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-329505
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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回路パターンの検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-075285
Applicant:新日本製鐵株式会社
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リソグラフィ装置の特徴形成変数の決定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-093522
Applicant:ヒューレット・パッカード・カンパニー
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特開平4-223034
-
検査方法および検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-130738
Applicant:株式会社日立製作所
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欠陥検出用顕微鏡装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-016218
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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欠陥種別判定装置及びプロセス管理システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-234818
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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半導体装置等の製造方法及びその装置並びに検査方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-334606
Applicant:株式会社日立製作所
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回路パターン検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-180934
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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プロセス処理装置及びそのシステム並びに製品保管装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-054291
Applicant:株式会社日立製作所
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微小異物の分析方法、分析装置およびこれらを用いる半導体素子もしくは液晶表示素子の製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-025118
Applicant:三菱電機株式会社, セイコー電子工業株式会社
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特開昭60-015939
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