Pat
J-GLOBAL ID：200903083746223380

液体原料用CVD装置

Inventor：
尾形 聖

About 尾形 聖

, 
武田 裕之

About 武田 裕之


Applicant, Patent owner：
東北リコー株式会社

About 東北リコー株式会社


Agent (3)： 柏木 慎史 ,  小山 尚人 ,  柏木 明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002290726
Publication number (International publication number)：2004124183
Application date： Oct. 03, 2002
Publication date： Apr. 22, 2004
Summary：
【課題】噴射口で未気化残渣による目詰まりを発生することなく極微量の液体原料を制御性よく供給できるようにする。【解決手段】液体原料6をガスで圧送し噴霧・気化して原料ガスとする液体原料用CVD装置において、成膜を行う反応室2内(又は噴霧された液体原料の気化を行う前処理室内)に、液体原料6を間欠的に噴射させるようその噴射をオン/オフさせるインジェクタ11を備えることで、インジェクタ11がオンし液体原料6が噴射されると配管10内の圧力は低下するが、インジェクタ11がオフ状態の時に再び加圧されるため、液体原料6が噴射される時には配管10内は常に十分な加圧状態となり、極微量の液体原料6を噴霧する場合においても噴射口で未気化残渣による目詰まりが発生することはない。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
液体原料をガスで圧送し噴霧・気化して原料ガスとする液体原料用CVD装置において、 成膜を行う反応室内又は噴霧された液体原料の気化を行う前処理室内に、噴射ノズルを有して液体原料を間欠的に噴射させるようその噴射をオン/オフさせるインジェクタを備えることを特徴とする液体原料用CVD装置。
IPC (3)：
C23C16/455 ,  C23C16/448 ,  H01L21/205
FI (3)：
C23C16/455 ,  C23C16/448 ,  H01L21/205
F-Term (11)：
4K030EA01 ,  4K030EA03 ,  4K030EA04 ,  4K030FA10 ,  4K030KA05 ,  5F045AA04 ,  5F045AC07 ,  5F045EE02 ,  5F045EE04 ,  5F045EE19 ,  5F045GB06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
Show all
Cited by examiner (6)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM