パターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998110654
Publication number (International publication number)：1999305437
Application date： Apr. 21, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】下地へのダメージを抑えてレジストのみを効率よく除去することの可能なパターン形成方法を提供すること。【解決手段】被処理基板上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を、レジスト膜中の溶解抑止基又は溶解抑止剤を分解する温度以上の温度に加熱する工程と、前記レジスト膜を、レジストを溶解する溶液に浸漬して、前記レジスト膜を除去する工程とを具備することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

被処理基板上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を、レジスト膜中の溶解抑止基又は溶解抑止剤を分解する温度以上の温度に加熱する工程と、前記レジスト膜を、レジストを溶解する溶液に浸漬して、前記レジスト膜を除去する工程とを具備することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/075 521 , G03F 7/11 503 , G03F 7/30 , H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/075 521 , G03F 7/11 503 , G03F 7/30 , H01L 21/30 571 , H01L 21/30 572 B , H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

レジスト剥離方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-192151 Applicant：日本電気株式会社
レジスト材料およびパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-331746 Applicant：富士通株式会社
感光性組成物、それを用いたレジストパターンの形成方法およびその剥離方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-147671 Applicant：沖電気工業株式会社

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