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J-GLOBAL ID：200903084441666580

水処理制御方法および水処理制御装置

Inventor：
後藤 伸介

About 後藤 伸介

, 
安永 望

About 安永 望


Applicant, Patent owner：
三菱電機株式会社

About 三菱電機株式会社


Agent (4)： 村上 啓吾 ,  大岩 増雄 ,  児玉 俊英 ,  竹中 岑生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007151058
Publication number (International publication number)：2008302287
Application date： Jun. 07, 2007
Publication date： Dec. 18, 2008
Summary：
【課題】水温変動に応じた適切な水処理を行うことができる水処理制御装置を提供する。【解決手段】被処理水に対してオゾンの注入を行うオゾン発生装置1と、被処理水に対して過酸化水素の注入を行う第1のポンプ2および過酸化水素貯留部20と、被処理水の水温を測定する水温計11と、水温計11の水温に基づいて水処理を行うための過酸化水素の注入量とオゾンの注入量の比を決定し、オゾン発生装置1からのオゾンの注入量および第1のポンプ2の過酸化水素の注入量を制御する制御装置4とを備える。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
被処理水に過酸化水素とオゾンとを注入して処理水を得る水処理制御方法において、 上記被処理水または上記処理水の水温に基づいて水処理を行うための過酸化水素の注入量とオゾンの注入量の比を決定し、決定した比になるようにオゾンの注入量および過酸化水素の注入量を制御することを特徴とする水処理制御方法。
IPC (2)：
C02F 1/78 ,  C02F 1/72
FI (2)：
C02F1/78 ,  C02F1/72 Z
F-Term (10)：
4D050AA01 ,  4D050AA08 ,  4D050AB04 ,  4D050AB11 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • オゾン処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-060564   Applicant：株式会社日立製作所
  • オゾン注入制御装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-107951   Applicant：株式会社東芝
  • 促進酸化処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-322291   Applicant：富士電機システムズ株式会社
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