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J-GLOBAL ID：200903085668488456

リソグラフィー用リンス液組成物及びそれを用いた基板の処理方法

Inventor： 田辺 将人 ,  脇屋 和正 ,  小林 政一 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 服部 平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996199574
Publication number (International publication number)：1998026832
Application date： Jul. 11, 1996
Publication date： Jan. 27, 1998
Summary：

【要約】【課題】Al、Al-Si、Al-Si-Cuなどの金属薄膜に腐食を起こすことのないリソグラフィー用リンス液組成物及びそれを用いた基板の処理方法を提供すること。【解決手段】フッ化水素酸と金属を含まない塩基との塩を主要成分とする剥離液組成物で処理した基板をリンス処理するためのリンス液組成物において、前記リンス液組成物が水溶性有機溶媒と水とを含有することを特徴とするリソグラフィー用リンス液組成物、及び前記リソグラフィー用リンス液組成物で剥離処理後の基板をリンス処理する方法。

Claim (excerpt)：

フッ化水素酸と金属を含まない塩基との塩を主要成分とする剥離液で処理した基板をリンス処理するためのリンス液組成物であって、前記リンス液組成物が水溶性有機溶媒と水とを含有する組成物であることを特徴とするリソグラフィー用リンス液組成物。

IPC (5)：

G03F 7/32 501 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/308

FI (7)：

G03F 7/32 501 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/308 E ,  H01L 21/308 G ,  H01L 21/30 569 E ,  H01L 21/30 572 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• リソグラフィー用リンス液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-086972   Applicant：東京応化工業株式会社
• 還元及び酸化電位を有する求核アミン化合物を含む洗浄剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-193940   Applicant：イー.ケー.シー.テクノロジー.インコーポレイテッド
• レジスト剥離後に用いるリンス液、半導体装置およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-224895   Applicant：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社, 関東化学株式会社
• フォトレジスト用剥離液及び配線パターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-082518   Applicant：三菱瓦斯化学株式会社, シャープ株式会社
• レジスト用剥離液組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-246711   Applicant：東京応化工業株式会社