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J-GLOBAL ID：200903086379172188

感光性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン

Inventor：
友部 大

About 友部 大

, 
鈴木 信之

About 鈴木 信之

, 
柿沼 正久

About 柿沼 正久


Applicant, Patent owner：
太陽インキ製造株式会社

About 太陽インキ製造株式会社


Agent (1)： ▲吉▼田 繁喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998071219
Publication number (International publication number)：1999249300
Application date： Mar. 06, 1998
Publication date： Sep. 17, 1999
Summary：
【要約】【課題】 焼成後のパターンのよれや線幅収縮等の問題もなく、フォトリソグラフィー技術により容易に高精細の導電パターン、ガラス質誘電体パターン、蛍光体パターンなどの焼成物パターンを形成できるアルカリ現像型の感光性組成物及びそれにより得られる焼成物パターンを提供する。【解決手段】 組成物は、(A)不飽和二重結合とカルボキシル基を有する化合物(a)と不飽和二重結合を有する化合物(b)の共重合体に、グリシジル(メタ)アクリレート(c)を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性ポリマー、(B)希釈剤、(C)光重合開始剤、(D)無機粉体、及び(E)安定剤を含有する。この感光性組成物を基板上に塗布した後、所定のパターン通りに露光し、アルカリ水溶液により現像した後、焼成することにより、高精細の焼成物パターンを形成できる。
Claim (excerpt)：
(A)不飽和二重結合とカルボキシル基を有する化合物(a)と不飽和二重結合を有する化合物(b)の共重合体に、グリシジル(メタ)アクリレート(c)を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性ポリマー、(B)希釈剤、(C)光重合開始剤、(D)無機粉体、及び(E)安定剤を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (6)：
G03F 7/027 502 ,  H01B 1/22 ,  H01B 3/00 ,  H01B 3/08 ,  H01J 9/20 ,  H01J 9/227
FI (6)：
G03F 7/027 502 ,  H01B 1/22 A ,  H01B 3/00 F ,  H01B 3/08 A ,  H01J 9/20 A ,  H01J 9/227 F
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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