マイクロ波プラズマ処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：河野登夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997287472
Publication number (International publication number)：1999121196
Application date： Oct. 20, 1997
Publication date： Apr. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】反応器の直径が大きくても、装置全体のサイズが可及的に小さくでき、小さなスペースに設置し得るマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】カバー部材10の上面にはアンテナ11が設けてあり、アンテナ11は、カバー部材10の上面に固定してあり、断面視がコ字状の導波管型アンテナ部12と、カバー部材10の導波管型アンテナ部12に対向する部分に開設した複数のスリット15,15,...とを備えている。導波管型アンテナ部12の一端は、マイクロ波発振器20に連接した導波管21が連結してあり、導波管型アンテナ部12の他端は閉塞してある。導波管型アンテナ部12の一端側は直線状であり、他端側は円弧状又は略一巻き渦巻き状等、適宜の曲率に成形した曲成部12a になしてある。また、スリット15,15,...の開設位置は、導波管型アンテナ部12の閉塞した端部からn・λg/2の位置に定めてある。

Claim (excerpt)：

一部を封止部材で封止してなる容器内へ、前記封止部材を透過させてマイクロ波を導入し、該マイクロ波によってプラズマを生成し、生成したプラズマによって被処理物を処理する装置において、一端からマイクロ波を入射する管状部材の他端を閉塞部材で閉塞し、該管状部材の前記封止部材に対向する部分にスリットを開設してなるアンテナが前記封止部材の表面に対向して設けてあり、前記管状部材の一端からアンテナ内へマイクロ波を入射し、前記スリットから前記封止部材へマイクロ波を放射するようになしてあることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (3)：

H05H 1/46 , C23F 4/00 , H01L 21/3065

FI (3)：

H05H 1/46 B , C23F 4/00 D , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

プラズマ発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-118299 Applicant：三菱電機株式会社
プラズマ処理装置およびその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-078934 Applicant：株式会社日立製作所
光記録媒体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-101010 Applicant：キヤノン株式会社

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