露光装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中島淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001274359
Publication number (International publication number)：2002351086
Application date： Sep. 10, 2001
Publication date： Dec. 04, 2002
Summary：

【要約】【課題】紫外を含む所定波長領域に感度を有する感光材料をデジタルデータに基づいて直接走査露光することができる露光装置を提供する。安価で生産性が高い露光装置を提供する。【解決手段】モータコントローラ32により露光ヘッド14がY軸方向に一定速度で移動されるに伴い、画像データ38が1ライン分読み出され、読み出された画像データ38に応じて光変調アレイ素子46のGLV素子の各々がオンオフ制御される。これにより露光ヘッド14の高出力のレーザ光源42から出射されるレーザ光40がオンオフされて、露光対象物10がX軸方向にGLV素子の数と略同数の画素単位で露光されると共に、Y軸方向に1ライン分走査露光される。次に、モータコントローラ32によりフラットステージ12がX軸方向に1ステップ移動される。以上の主走査及び副走査を繰り返し、露光対象物10が画像様に露光される。

Claim (excerpt)：

紫外を含む所定波長領域の光ビームを出射する高出力レーザ光源を備えると共に、前記所定波長領域に感度を有する感光材料を、前記高出力レーザ光源から出射され且つ画像データに応じて変調された光ビームで所定走査方向に走査して露光する露光手段と、前記露光手段を前記感光材料に対して前記所定走査方向と交差する方向に相対移動させる移動手段と、を含む露光装置であって、前記高出力レーザ光源を、窒化ガリウム系半導体レーザ、窒化ガリウム系半導体レーザで固体レーザ結晶を励起して得られたレーザビームを光波長変換素子で波長変換して出射する半導体レーザ励起固体レーザ、赤外領域の光を出射する半導体レーザでファイバを励起して得られたレーザビームを光波長変換素子で波長変換して出射するファイバレーザまたはファイバアンプ、及び窒化ガリウム系半導体レーザでファイバを励起して得られたレーザビームを光波長変換素子で波長変換して出射するファイバレーザのいずれかで構成した露光装置。

IPC (10)：

G03F 7/20 505 , B41J 2/44 , G02B 26/08 , G02F 1/13 101 , G03B 27/73 , G03F 7/24 , H01L 21/027 , H01S 3/00 , H01S 3/094 , H01S 3/109

FI (10)：

G03F 7/20 505 , G02B 26/08 E , G02F 1/13 101 , G03B 27/73 , G03F 7/24 Z , H01S 3/00 B , H01S 3/109 , H01L 21/30 529 , H01S 3/094 S , B41J 3/00 D

F-Term (59)：

2C362AA02 , 2C362AA10 , 2C362AA13 , 2C362AA42 , 2C362AA43 , 2C362AA45 , 2C362AA48 , 2C362BA01 , 2C362BA27 , 2C362BA29 , 2C362BA57 , 2C362BA58 , 2C362BA60 , 2C362BA66 , 2C362BA67 , 2C362BA83 , 2C362BA84 , 2C362CB71 , 2H041AA11 , 2H041AA23 , 2H041AB14 , 2H041AB38 , 2H041AC06 , 2H041AZ00 , 2H041AZ05 , 2H088FA18 , 2H088FA30 , 2H088HA12 , 2H088MA03 , 2H097AA03 , 2H097AA05 , 2H097BB02 , 2H097CA06 , 2H097CA08 , 2H097CA17 , 2H097FA01 , 2H097LA12 , 2H110CD12 , 2H110CD17 , 5F046BA07 , 5F046CA03 , 5F046CA09 , 5F046CB01 , 5F046CB04 , 5F046CB08 , 5F046CB10 , 5F046CC15 , 5F072AB07 , 5F072AB13 , 5F072AB20 , 5F072AK06 , 5F072JJ08 , 5F072KK12 , 5F072MM03 , 5F072MM18 , 5F072PP07 , 5F072QQ02 , 5F072RR05 , 5F072YY09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (21)

パターン露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-014792 Applicant：ソニー株式会社
デジタル製版印刷装置、デジタル製版印刷・電子写真印刷複合装置及び製版装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-033581 Applicant：株式会社日立製作所
光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグラフィ用露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-148449 Applicant：リコーマイクロエレクトロニクス株式会社

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