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J-GLOBAL ID:200903056954564151
走査露光方法及び走査型露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
立石 篤司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997088907
Publication number (International publication number):1998270345
Application date: Mar. 24, 1997
Publication date: Oct. 09, 1998
Summary:
【要約】【課題】 設定露光量のいかんにかかわらず常に最短時間で露光を行なう。【解決手段】 走査露光の際には、設定露光量と計測された平均パルスエネルギとの関係により定まる1点当たりの露光パルス数に応じて、主制御装置50によってマスクRと感光基板Wとの最大走査速度とパルスレーザ光源16の最大発振周波数との少なくとも一方を維持するように、光源16の発振周波数が制御される。このため、設定露光量が小さく、発振周波数もそれほど高くする必要がない高感度領域では、設定露光量に無関係にスキャン最高速での走査露光が可能となる。一方、設定露光量が大きくなると、発振周波数もそれに応じて高くしなければならいが、発振周波数は最大発振周波数が上限であるから、設定露光量が大きく、スキャン最高速を維持できない低感度領域では、発振周波数を最大発振周波数に設定して、露光が行われることとなる。
Claim (excerpt):
パルスレーザ光源からのパルス光によりマスク上の所定の照明領域を照明し、前記マスクと感光基板とを投影光学系に対して相対走査しつつ、前記マスクに形成されたパターンを感光基板上に逐次投影露光する走査露光方法であって、前記パルスレーザ光源からのパルス光の平均パルスエネルギを計測する工程と;設定された露光量と前記計測された平均パルスエネルギとの関係により定まる1点当たりの露光パルス数に応じて、走査露光の際に、前記マスクと感光基板との最大走査速度と前記パルスレーザ光源の最大発振周波数との少なくとも一方を維持するように、前記パルスレーザ光源の発振周波数を制御する工程とを含む走査露光方法。
IPC (3):
H01L 21/027
, G03F 7/20 505
, G03F 7/20 521
FI (4):
H01L 21/30 518
, G03F 7/20 505
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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露光方法及び露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-014482
Applicant:株式会社ニコン
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III-V族化合物半導体の気相成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-053373
Applicant:住友電気工業株式会社
-
露光制御装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-035248
Applicant:株式会社ニコン
-
走査型露光方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-055399
Applicant:株式会社ニコン
-
照明方法及び照明装置及びそれらを用いた露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-146238
Applicant:キヤノン株式会社
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走査型露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-018380
Applicant:キヤノン株式会社
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走査型露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-027812
Applicant:株式会社ニコン
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露光装置および露光方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-320042
Applicant:キヤノン株式会社
-
照明装置及びそれを用いた走査型露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-153327
Applicant:キヤノン株式会社
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