Pat
J-GLOBAL ID:200903087110794561
化学増幅型ネガ型レジスト組成物
Inventor:
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
阿形 明 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998023182
Publication number (International publication number):1999218919
Application date: Feb. 04, 1998
Publication date: Aug. 10, 1999
Summary:
【要約】【課題】 断面が矩形で良好なプロファイル形状のレジストパターンを形成しうるとともに、優れた感度を有する化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)ハロゲン酸発生剤とビス(アルキルスルホニル)ジアゾメタンとの重量比20:1ないし1:2の混合物及び(C)架橋剤を配合して化学増幅型ネガ型レジスト組成物とする。
Claim (excerpt):
(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)架橋剤を含有してなるレジスト組成物において、(B)成分として、ハロゲン酸発生剤とビス(アルキルスルホニル)ジアゾメタンとの重量比20:1ないし1:2の混合物を用いることを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト組成物。
IPC (2):
G03F 7/038 601
, G03F 7/004 503
FI (2):
G03F 7/038 601
, G03F 7/004 503 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
化学増幅型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-046672
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-093974
Applicant:東京応化工業株式会社
-
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-335913
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
ネガ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-143186
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いる酸発生剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-171108
Applicant:東京応化工業株式会社
-
ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-254215
Applicant:東京応化工業株式会社
Show all
Return to Previous Page