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J-GLOBAL ID:200903087110794561

化学増幅型ネガ型レジスト組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 阿形 明 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998023182
Publication number (International publication number):1999218919
Application date: Feb. 04, 1998
Publication date: Aug. 10, 1999
Summary:
【要約】【課題】 断面が矩形で良好なプロファイル形状のレジストパターンを形成しうるとともに、優れた感度を有する化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)ハロゲン酸発生剤とビス(アルキルスルホニル)ジアゾメタンとの重量比20:1ないし1:2の混合物及び(C)架橋剤を配合して化学増幅型ネガ型レジスト組成物とする。
Claim (excerpt):
(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)架橋剤を含有してなるレジスト組成物において、(B)成分として、ハロゲン酸発生剤とビス(アルキルスルホニル)ジアゾメタンとの重量比20:1ないし1:2の混合物を用いることを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト組成物。
IPC (2):
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503
FI (2):
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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