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J-GLOBAL ID：200903087441318069

電子線照射装置、電子線照射方法、ディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法

Inventor：
田中 和志

About 田中 和志

, 
宇佐美 守

About 宇佐美 守

, 
米山 健司

About 米山 健司


Applicant, Patent owner：
TDK株式会社

About TDK株式会社


Agent (2)： 田村 敬二郎 ,  小林 研一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002274122
Publication number (International publication number)：2004110969
Application date： Sep. 19, 2002
Publication date： Apr. 08, 2004
Summary：
【課題】紫外線照射では硬化が困難である材料をも容易に硬化でき、電子線の積算照射線量を被照射面全体にわたって均一にできる電子線照射装置及び電子線照射方法を提供する。また、紫外線照射では硬化が困難である材料による樹脂層等をディスク状体上に効率よく形成できるようにしたディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法を提供する。【解決手段】この電子線照射装置1は、ディスク状体2を回転駆動する回転駆動部17と、ディスク状体を回転可能に収容する遮蔽容器10と、ディスク状体の表面の被照射面に対し電子線が照射されるように遮蔽容器に設けられた電子線照射部11と、を具備し、ディスク状体の回転中に被照射面2bに電子線照射部から電子線を照射するときに、電子線の照射線強度がディスク状体の半径方向の外周面2d側において内周面2c側よりも大きくなるように構成した。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
ディスク状体を回転駆動する回転駆動部と、前記ディスク状体を回転可能に収容する遮蔽容器と、前記ディスク状体の表面の被照射面に対し電子線が照射されるように前記遮蔽容器に設けられた電子線照射部と、を具備し、 前記ディスク状体の回転中に前記被照射面に前記電子線照射部から電子線を照射するときに、前記電子線の照射線強度が前記ディスク状体の半径方向の外周面側において内周面側よりも大きくなるように構成したことを特徴とする電子線照射装置。
IPC (4)：
G11B7/26 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10
FI (7)：
G11B7/26 531 ,  G21K5/00 B ,  G21K5/00 W ,  G21K5/04 C ,  G21K5/04 E ,  G21K5/04 W ,  G21K5/10 T
F-Term (7)：
5D121AA04 ,  5D121EE23 ,  5D121EE28 ,  5D121EE29 ,  5D121GG02 ,  5D121GG20 ,  5D121GG28
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
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