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J-GLOBAL ID：200903087956156584

平面アンテナ部材、これを用いたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

Inventor：
本郷 俊明

About 本郷 俊明


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999067477
Publication number (International publication number)：2000268996
Application date： Mar. 12, 1999
Publication date： Sep. 29, 2000
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 電界集中による異常放電を抑制しつつ大電力を投入することができる平面アンテナ部材を提供する。【解決手段】 被処理体Wを載置する載置台24を内部に設けて真空引き可能になされた処理容器22内に対して、複数のスロット84からプラズマ発生用のマイクロ波を導入するための平面アンテナ部材66において、前記スロットの内側には、円偏波形成用導体86が配置されている。これにより、電界集中による異常放電を抑制しつつ大電力を投入することを可能とする。
Claim (excerpt)：
被処理体を載置する載置台を内部に設けて真空引き可能になされた処理容器内に対してマイクロ波を導入するための平面アンテナ部材において、スロットを形成する複数の貫通孔を有する第1の導体と、前記貫通孔内に配置された第2の導体とよりなることを特徴とする平面アンテナ部材。
IPC (6)：
H05H 1/46 ,  C23C 16/511 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (7)：
H05H 1/46 B ,  H05H 1/46 L ,  C23C 16/50 E ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B
F-Term (32)：
4K030CA04 ,  4K030FA01 ,  4K030HA07 ,  4K030JA01 ,  4K030KA30 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  4K057DA11 ,  4K057DA20 ,  4K057DD01 ,  4K057DE08 ,  4K057DM29 ,  4K057DM35 ,  4K057DM37 ,  4K057DM39 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F004AA01 ,  5F004AA16 ,  5F004BB14 ,  5F004BB29 ,  5F004BD01 ,  5F004BD03 ,  5F004BD04 ,  5F004DA01 ,  5F045AA09 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EB03 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EM09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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