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J-GLOBAL ID：200903044187260186

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎

, 
青合 利明

About 青合 利明


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997082855
Publication number (International publication number)：1998326014
Application date： Apr. 01, 1997
Publication date： Dec. 08, 1998
Summary：
【要約】【課題】 特に170nm〜220nmという波長領域の遠紫外線に対して十分好適であり、かつ光に対して高感度で、得られるレジストパターンプロファイルが優れ、且つ経時保存安定性が優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 特定の酸分解性基を有する単量体を繰り返し構造単位として含有し、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び塩基性低分子化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
下記一般式〔I〕で表される単量体を繰り返し構造単位として含有し、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び塩基性低分子化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 は水素原子又はメチル基を表す。R2 はアルキル基、環状アルキル基、又は置換アルキル基を表す。R3 、R4 は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基を表す。Aは、単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基の中から選ばれる1つの基もしくはそれら2つ以上を組み合わせた基を表す。)
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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