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J-GLOBAL ID:200903088022970178
ガスセンサチップ及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
北村 修一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005100079
Publication number (International publication number):2005315874
Application date: Mar. 30, 2005
Publication date: Nov. 10, 2005
Summary:
【課題】 ガス検知感度が良好なガスセンサチップ、及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板11の一方の面に電極12,13を設け、基板11の一方の面と電極12,13の表面とにセラミックスの被覆層14を形成したガスセンサチップであって、セラミックスの粒子径を8〜30nmとし、また、その製造方法として、基板11の一方の面に電極12,13を設ける工程と、基板11の一方の面及び電極12,13の表面に液相析出法によるセラミックスの被覆層14を形成する工程とを含むものとする。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
基板の一方の面に電極を設け、前記基板の一方の面と前記電極の表面とにセラミックスの被覆層を形成したガスセンサチップであって、
前記セラミックスの粒子径が8〜30nmであるガスセンサチップ。
IPC (1):
FI (2):
G01N27/12 C
, G01N27/12 M
F-Term (21):
2G046AA02
, 2G046AA11
, 2G046AA13
, 2G046AA18
, 2G046AA19
, 2G046BA01
, 2G046BA09
, 2G046BB02
, 2G046BC04
, 2G046BC08
, 2G046BE03
, 2G046EA02
, 2G046EA04
, 2G046EA09
, 2G046EA11
, 2G046FB02
, 2G046FC01
, 2G046FE15
, 2G046FE39
, 2G046FE46
, 2G046FE48
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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ガスセンサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-341856
Applicant:フイガロ技研株式会社
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感湿素子、その製法およびそれを用いた感湿装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-353699
Applicant:株式会社リコー
Cited by examiner (6)
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半導体式ガス検知素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-068384
Applicant:新コスモス電機株式会社
-
水素ガス検出素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-135345
Applicant:日本特殊陶業株式会社
-
基板型半導体式ガスセンサ及びガス検出器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-048393
Applicant:新コスモス電機株式会社
-
無水アンチモン酸亜鉛半導体ガスセンサー及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-059430
Applicant:日産化学工業株式会社
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抵抗型酸素センサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-240360
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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ガスセンサの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-100078
Applicant:日本板硝子株式会社, 財団法人新産業創造研究機構, 新コスモス電機株式会社
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