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J-GLOBAL ID：200903089336258878

微粉末シリカの表面処理方法およびポリオルガノシロキサン組成物

Inventor：
田貝 秀文

About 田貝 秀文

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飯島 宏義

About 飯島 宏義

, 
篠木 幸二

About 篠木 幸二

, 
南雲 公二

About 南雲 公二


Applicant, Patent owner：
ジーイー東芝シリコーン株式会社

About ジーイー東芝シリコーン株式会社


Agent (1)： 津国 肇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001337532
Publication number (International publication number)：2003137530
Application date： Nov. 02, 2001
Publication date： May. 14, 2003
Summary：
【要約】【課題】 ポリオルガノシロキサンと微粉末シリカを混練する工程で、シラザン化合物によって微粉末シリカの表面のシラノール基を完全にシリル化する方法;および微粉末シリカ表面のシラノール基を除去したポリオルガノシロキサン組成物を提供する。【解決手段】 ポリオルガノシロキサンと、微粉末シリカとの混合物を、混練しながら、シラザン化合物により該微粉末シリカの表面を処理する方法であって、該シラザン化合物および/またはその加水分解生成物を、還流条件下で微粉末シリカの表面処理に供することを特徴とする、微粉末シリカの表面処理方法;およびそのようにして得られたポリオルガノシロキサンおよびシラザン処理微粉末シリカを含むポリオルガノシロキサン組成物。
Claim (excerpt)：
ケイ素原子に結合した1価の脂肪族不飽和炭化水素基を1分子中に少なくとも2個有するポリオルガノシロキサンと、微粉末シリカとの混合物を混練しながら、有機ケイ素化合物により該微粉末シリカの表面をシリル化処理する方法であって、該有機ケイ素化合物および/またはその加水分解生成物を、系外に逸出しない条件下で微粉末シリカ表面処理に供することを特徴とする、微粉末シリカの表面処理方法。
IPC (5)：
C01B 33/18 ,  C08K 3/10 ,  C08K 9/06 ,  C08L 83/05 ,  C08L 83/07
FI (5)：
C01B 33/18 C ,  C08K 3/10 ,  C08K 9/06 ,  C08L 83/05 ,  C08L 83/07
F-Term (15)：
4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH28 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR05 ,  4G072RR07 ,  4G072UU08 ,  4J002CP042 ,  4J002CP131 ,  4J002DA117 ,  4J002DD077 ,  4J002DJ016 ,  4J002FB146
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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