Pat
J-GLOBAL ID：200903038575632680

型取り材

Inventor：
望月 紀久夫

About 望月 紀久夫


Applicant, Patent owner：
ジーイー東芝シリコーン株式会社

About ジーイー東芝シリコーン株式会社


Agent (1)： 津国 肇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000398024
Publication number (International publication number)：2002194219
Application date： Dec. 27, 2000
Publication date： Jul. 10, 2002
Summary：
【要約】【課題】 複製品を製造する際に、複製品を汚損することなく、機械的強度と複製品の離型性に優れ、型取りを繰り返しても硬さの変化や表面の荒れが少なく、型取り回数を多くできる、特に透明樹脂やプロトタイプなど、高度の離型性を要する型取りに適した型取り材を提供する。【構成】 (A)脂肪族不飽和炭化水素基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサン、(B)ポリオルガノハイドロジェンシロキサン、(C)白金化合物および(D)1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザンで表面処理された煙霧質シリカを含むことを特徴とする型取り材。
Claim (excerpt)：
(A)ケイ素原子に結合した1価の脂肪族不飽和炭化水素基を1分子中に2個以上有する直鎖状ポリオルガノシロキサン 100重量部;(B)ケイ素原子に結合した水素原子を、1分子中に3個以上有するか、(A)のケイ素原子に結合した1価の脂肪族不飽和炭化水素基の数が1分子中に3個以上の場合は、2個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサン (A)成分中の1価の脂肪族不飽和炭化水素基1個に対して、ケイ素原子に結合した水素原子の数が0.5〜5個となるような量;(C)白金化合物 (A)に対して白金原子換算1〜100重量ppm;および(D)1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザンで表面処理された煙霧質シリカ 5〜50重量部を含み、かつケイ素原子に結合した1価の脂肪族不飽和炭化水素基を有する分岐状ポリオルガノシロキサンを含有しないことを特徴とする型取り材。
IPC (3)：
C08L 83/07 ,  C08K 9/06 ,  C08L 83/05
FI (3)：
C08L 83/07 ,  C08K 9/06 ,  C08L 83/05
F-Term (7)：
4J002CP04X ,  4J002CP14W ,  4J002DD046 ,  4J002DJ017 ,  4J002EZ006 ,  4J002FB147 ,  4J002FD156
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (20)
Show all
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM