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J-GLOBAL ID：200903089444497137
開口作製方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
松下 義治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006213266
Publication number (International publication number)：2007078677
Application date： Aug. 04, 2006
Publication date： Mar. 29, 2007
Summary：
【課題】 チップ先端部から遮光膜を完全に除去し、しかも製造歩留まりの向上が可能な開口作製方法を提供する。【課題手段】 錐状あるいは錐台状に形成されたチップの先端に光学的な開口を作製する開口作製方法であって、前記チップと該チップの近傍に配置されて尾根状に形成されたストッパーと少なくとも前記チップ上に形成された遮光膜とからなる被開口形成体のうち、前記チップの先端部に形成されている前記遮光膜を塑性変形させる第1の工程と、塑性変形させて残った前記遮光膜をエッチングして除去し、前記チップの先端に光学的な開口部を形成する第2の工程とからなることを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
錐状あるいは錐台状に形成されたチップの先端に光学的な開口を作製する開口作製方法であって、
前記チップと、該チップの近傍に配置されて尾根状に形成されたストッパーと、少なくとも前記チップ上に形成された遮光膜と、からなる被開口形成体のうち、前記チップの先端部に形成されている前記遮光膜を塑性変形させる第1の工程と、前記塑性変形させて残った前記遮光膜をエッチングして除去し、前記チップの先端に光学的な開口部を形成する第2の工程と、からなることを特徴とする開口作製方法。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
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光学的な開口の作製方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2001-126415
Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
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近視野光発生素子、近視野光記録装置、および近視野光顕微鏡
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2002-092276
Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
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近視野光ヘッドの作製方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2002-342154
Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
Cited by examiner (2)
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