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J-GLOBAL ID:200903090406051093

撥水性酸化シリコン皮膜、および撥水性酸化シリコン皮膜の製造方法、並びに硬質撥水性酸化シリコン皮膜

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997068766
Publication number (International publication number):1998130844
Application date: Mar. 21, 1997
Publication date: May. 19, 1998
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 撥水性酸化シリコン皮膜を容易に、低温でかつ母材と密着性良く製造する方法を提供する。【解決手段】 シリコン化合物を気相中で分解反応させて生成したシリコン含有分解反応物と、フッ素化合物を気相中で分解反応させて生成したフッ素含有分解反応物と、からなり、酸化シリコンと、互いに結合したフッ素と炭素と、を含む。また、本撥水性酸化シリコン皮膜の製造方法は、シリコン化合物およびフッ素化合物の少なくとも一方が酸素を含み、かつ少なくとも一方が炭素を含むシリコン化合物およびフッ素化合物ガスをそれぞれ調製して原料ガスとし、原料ガスに含まれるシリコン化合物とフッ素化合物とを気相中で分解反応させ、得られる分解反応物を母材上に堆積させて皮膜を形成する。さらに、本発明の硬質撥水性酸化シリコン皮膜は、本撥水性酸化シリコン皮膜と同じ成分をもつ撥水層と、酸化シリコン系化合物からなる硬質層と、からなる。
Claim (excerpt):
シリコン化合物を気相中で分解反応させることにより生成したシリコンを含有する分解反応物(以下、シリコン含有分解反応物と称する。)と、フッ素化合物を気相中で分解反応させることにより生成したフッ素を含有する分解反応物(以下、フッ素含有分解反応物と称する。)と、からなり、該シリコン化合物および該フッ素化合物の少なくとも一方は酸素を含む化合物であり、かつ該シリコン化合物および該フッ素化合物の少なくとも一方は炭素を含む化合物であって、該シリコンは該シリコン含有分解反応物および該フッ素含有分解反応物の少なくとも一方に含まれる該酸素と結合した酸化シリコンの形態で含まれ、かつ該フッ素は該シリコン含有分解反応物および該フッ素含有分解反応物の少なくとも一方に含まれる該炭素と結合した形態で含まれることを特徴とする撥水性酸化シリコン皮膜。
IPC (2):
C23C 16/42 ,  C23C 16/50
FI (2):
C23C 16/42 ,  C23C 16/50
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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Article cited by the Patent:
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